光催化氧化設(shè)備的概述：
本產(chǎn)品采用高能高臭氧UV紫外線光束、氧化反應(yīng)催化劑、高能離子發(fā)生裝置的組合工藝來降解有機廢氣，改變惡臭、刺激型氣體如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，通過高能紫外線光束照射、催化劑的氧化反應(yīng)、正氧離子的氧化反應(yīng)，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
光催化氧化設(shè)備的工藝原理：1、利用高能高臭氧紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),*臭氧對有機物具有*的氧化作用，對有機氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。有機性氣體利用排風設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，運用高能紫外線光束及臭氧對有機（異味）氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使有機氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。
2、高能離子空氣凈化系采用正負雙極電離技術(shù)。在電場作用下，離子發(fā)生器產(chǎn)生大量的a 粒子，a 粒子與空氣中的氧分子進行碰撞而形成正負氧離子。正氧離子具有很強的氧化性，能在極短的時間內(nèi)氧化分解甲硫醇、氨、硫化氫等污染因子，且在與VOC分子相接觸后打開有機揮發(fā)性氣體的化學鍵，經(jīng)過一系列的反應(yīng)后zui終生成二氧化碳和水等穩(wěn)定無害的小分子。同時氧離子能破壞空氣中細菌的生存環(huán)境，降低室內(nèi)細菌濃度。帶電離子可以吸附大于自身重量幾十倍的懸浮顆粒，靠自重沉降下來，從而清除空氣中懸浮膠體達到凈化空氣的目的
3、催化劑（二氧化鈦）在受到紫外線光照射時生成化學活潑性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，攻擊有機物，達到降解有機物的作用。二氧化鈦屬于非溶出型材料，在*分解有機污染物和殺滅菌的同時，自身不分解、不溶出，光催化作用持久，并具有持久的殺菌、降解污染物效果。
的產(chǎn)品性能綜述：一、高效降解有機化學物：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99.9%以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）．
二、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風管道和排風動力，使氣體通過本設(shè)備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學反應(yīng)。
三、適應(yīng)性強：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同有機化學氣體物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
四、運行成本低：本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.1度電能），設(shè)備風阻極低＜
30pa,可節(jié)約大量排風動力能耗。
五、無需預(yù)處理：廢氣無需進行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30o－95o之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。
六、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。
設(shè)備的適用范圍：煉油廠、橡膠廠、化工廠、家具廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。
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