污水除臭裝置參數(shù)

光解催化氧化技術(shù)原理

利用220V低電壓高強(qiáng)度的寬波幅光子管發(fā)出特定波段能量均衡的雙波段光（185nm、254nm）照射廢氣，裂解廢氣中如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯、VOC類等分子結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子污染物分子鏈，在高能紫外線光束照射下裂解，氧化成小分子化合物。

利用UV高能紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡，所以需與氧氣分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

其反應(yīng)式為：

UV+O₂ → O^-+O⁺（游離氧）

O^-或O⁺+O₂ → O₃（臭氧）

運(yùn)用UV高能紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、CO₂和H₂O，再通過風(fēng)管排出。

離子除臭設(shè)備是由 離子發(fā)生器、離子發(fā)生管、控制系統(tǒng)組成、用來除

臭、清除異味的空氣凈化設(shè)備，普遍應(yīng)用于新風(fēng)系統(tǒng)凈化、*空調(diào)室內(nèi)

凈化、工廠、車間、污水站、垃圾除臭等場所。常見的有等離子除臭設(shè)

備、高能離子除臭設(shè)備、光氫離子除臭設(shè)備、低溫等離子除臭設(shè)備、靜電

除塵設(shè)備等等。

離子除臭設(shè)備的主要原理是在高能電子的瞬時(shí)高能量作用下，產(chǎn)生大量正

負(fù)離子，打開某些有害氣體分子的化學(xué)鍵，使其直接分解成單質(zhì)原子、基

團(tuán)或無害分子。

低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為：低溫等離子設(shè)備在外加電場的作

用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和

激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物

轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無毒無害或低毒低

害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量

在10ev ，低溫等離子設(shè)備適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)

現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速。作為環(huán)境污染處理領(lǐng)域中的一項(xiàng)

具有*優(yōu)勢的*，等離子體受到了國內(nèi)外化工廢氣治理方面的高

度評價(jià)。污水除臭裝置參數(shù)污水除臭裝置參數(shù)