光觸媒分散機(jī)

光觸媒分散機(jī) 光觸媒高剪切分散機(jī) 光觸媒高速均質(zhì)機(jī) 光觸媒納米級(jí)分散機(jī) 光觸媒在線式研磨分散機(jī) 光觸媒研磨均質(zhì)機(jī)    光觸媒高剪切均質(zhì)機(jī)

光觸媒是一種以納米級(jí)二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱，它涂布于基材表面，在紫外光及可見光的作用下，產(chǎn)生強(qiáng)烈催化降解功能：能有效地降解空氣中有毒有害氣體；能有效殺滅多種細(xì)菌，并能將細(xì)菌或真菌釋放出的毒素分解及無(wú)害化處理；同時(shí)還具備除甲醛、除臭、抗污、凈化空氣等功能。

納米級(jí)的二氧化鈦在研磨細(xì)化的狀態(tài)下本身具有團(tuán)聚的現(xiàn)象這樣的話就不能夠很好的發(fā)揮二氧化鈦的特性。我司研發(fā)的高剪切研磨分散機(jī)不僅可以將二氧化鈦進(jìn)行更細(xì)的研磨還可以對(duì)二氧化鈦進(jìn)行分散，高轉(zhuǎn)速的研磨均質(zhì)分散配合分散劑這樣能夠更好地發(fā)揮二氧化鈦的特性。

北京某公司在我公司用的研磨分散機(jī)做的光觸媒催化劑效果非常好，剛開始一些問(wèn)題不能夠解決在我們的建議之下加入了膨脹石墨效果明顯加強(qiáng)。

影響納米材料分散要素：

1、分散介質(zhì)

（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機(jī)溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

2、分散劑

（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。

（3）水性介質(zhì)中，*使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中，如醇、DMF、NMP， *使用TNADIS。中等極性有機(jī)溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠，*使用TNEDIS 

高剪切研磨分散機(jī)介紹

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3 參數(shù)內(nèi)的各種型號(hào)的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不同,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。

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