產(chǎn)品介紹：
中小型高溫爐是工業(yè)生產(chǎn)與科研中常用的設(shè)備之一。目前的高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體，升溫速率慢、無法實(shí)現(xiàn)變溫環(huán)境模擬，且不同氣氛環(huán)境難以共用。在研的“工業(yè)級(jí)與科研級(jí)特種紅外高溫爐”，具有快速升溫、變溫模擬、定制紅外加熱波段、紅外反射涂層保溫、氣氛可調(diào)（一臺(tái)設(shè)備同時(shí)實(shí)現(xiàn)大氣/真空/惰性氣體等）的優(yōu)點(diǎn)。目前美曰等國(guó)已發(fā)展出部分相關(guān)的高溫爐，我國(guó)仍是空白。
氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進(jìn)行太陽能電池/化合物半導(dǎo)體等的工藝開發(fā)和各種應(yīng)用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合，并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據(jù)用戶的需要進(jìn)行定制。
氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置
儀器規(guī)格：
型號(hào) | HCTD-1400 | HCTD-1200A | HCTD-1200B |
加熱方式 | 近紅外橢圓反射 | 紅外拋物面反射聚光 | |
溫度范圍 | RT～1400℃ | RT～1200℃ | |
熱處理區(qū) | Φ15mm×長(zhǎng)100mm | Φ50mm×長(zhǎng)100mm | Φ50mm×長(zhǎng)150mm |
均熱去（加熱時(shí)） | Φ10mm×長(zhǎng)80mm | Φ40mm×長(zhǎng)80mm | Φ40mm×長(zhǎng)120mm |
冷卻方式 | 從腔內(nèi)石英噴嘴噴出氣體 | ||
儀器優(yōu)勢(shì)：
儀器特點(diǎn)：
設(shè)定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件
多步驟及循環(huán)加熱利用氣體冷卻機(jī)構(gòu)的高速氣體淬火
可以簡(jiǎn)單地從電腦上輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)
可以在電腦上顯示加熱中的溫度數(shù)據(jù)
儀器應(yīng)用：
太陽能電池基板的熱處理
在氣氛環(huán)境下的熱處理
各種材料的基礎(chǔ)研究氣氛退火熱處理
模擬器漸變熱處理
熱循環(huán)熱沖擊試驗(yàn)研究
半導(dǎo)體材料的燒結(jié)和工藝退火爐
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