GMD2000/4 高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī)

一、設(shè)備供應(yīng)：

高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī),納米科研級氧化鎂乳化機(jī),氧化鎂納米研磨分散機(jī),氧化鎂納米分散均質(zhì)設(shè)備

二、應(yīng)用領(lǐng)域：

隨著產(chǎn)業(yè)化升級及*功能材料市場的需求和發(fā)展，研發(fā)生產(chǎn)出一系列高新精細(xì)氧化鎂產(chǎn)品，主要用于高級潤滑油、高級鞣革提堿級、食品級、醫(yī)藥級、硅鋼級、高級電磁級、高純氧化鎂等近十個(gè)品種組成。

三、設(shè)備介說明：

SGN德國納米科研級氧化鎂研磨分散機(jī)在分散氧化鎂時(shí)通過14000rpm超高的轉(zhuǎn)速形成的*剪切力使物料在0.2-0.3mm極細(xì)的定轉(zhuǎn)子間隙中形成每分鐘數(shù)以 萬次的撞擊、破碎、撕裂，將原本抱團(tuán)的納米級氧化鎂進(jìn)一步的破碎，打開團(tuán)塊形成納米級顆粒狀，為防止被打碎的納米級氧化鎂顆粒再次抱團(tuán)，我們在研 磨后又加了一級分散均質(zhì)盤，對物料進(jìn)行*的分散，阻止物料再進(jìn)行二次抱團(tuán)。氧化鎂分散的越細(xì)越均一，對于后期做應(yīng)用性能就越好！

GMD2000/4 高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī)

四、影響納米材料分散要素：

1、分散介質(zhì)

（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機(jī)溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

2、分散劑

（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。

（3）水性介質(zhì)中，*使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中，如醇、DMF、NMP， *使用TNADIS。

3、分散設(shè)備

上海SGN（思峻）機(jī)械設(shè)備有限公司專門應(yīng)對納米材料分散開發(fā)的高剪切三級分散機(jī)GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁，納米氧化鋅，納米氧化鈰，納米氧化鐵，納米氧化鉍，納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細(xì)高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。

高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相固體進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。

當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達(dá)到微米數(shù)量級時(shí)，甚至納米級時(shí)，體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí)，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動(dòng)能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細(xì)的分散均質(zhì)，經(jīng)過高頻管線式高剪切分散機(jī)的循環(huán)往復(fù)，得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

五、設(shè)備參數(shù)：