● Sweep/Normal 功能：Sweep 技術(shù)使超聲波聲場(chǎng)分布更均勻，清洗更*；Normal 用于高效萃取、混勻、乳化、脫氣等實(shí)驗(yàn)需求
● Degas 脫氣：實(shí)現(xiàn)溶劑快速脫氣、清洗劑快速混勻
● 功率可調(diào)：范圍10-*，旋鈕調(diào)節(jié)
● 溫度可調(diào)：范圍30-80℃，旋鈕調(diào)節(jié)
● 時(shí)間可調(diào)：范圍1-15min 或連續(xù)，旋鈕調(diào)節(jié)
● 具有溫控開(kāi)機(jī)、過(guò)溫保護(hù)、連續(xù)工作保護(hù)等功能
● 多種頻率組合可選：MF2（25/45kHz）、MF3（35/130kHz）
● Degas 脫氣：實(shí)現(xiàn)溶劑快速脫氣、清洗劑快速混勻
● 功率可調(diào)：范圍10-*，旋鈕調(diào)節(jié)
● 溫度可調(diào)：范圍30-80℃，旋鈕調(diào)節(jié)
● 時(shí)間可調(diào)：范圍1-15min 或連續(xù)，旋鈕調(diào)節(jié)
● 具有溫控開(kāi)機(jī)、過(guò)溫保護(hù)、連續(xù)工作保護(hù)等功能
● 多種頻率組合可選：MF2（25/45kHz）、MF3（35/130kHz）
● 清除粗糙、頑固的粘合污染和預(yù)清洗（如：不銹鋼、鑄鐵）
● 各種簡(jiǎn)單常規(guī)清洗工作（如實(shí)驗(yàn)室玻璃器皿等）及樣品前處理（如萃取、乳化等）
● 清洗精細(xì)零部件及敏感材質(zhì)的表面（如：輕金屬合金）
● 適用于清細(xì)的零件和高度敏感材質(zhì)的表面（如：微電子元件、精細(xì)的光學(xué)元件）
● 各種簡(jiǎn)單常規(guī)清洗工作（如實(shí)驗(yàn)室玻璃器皿等）及樣品前處理（如萃取、乳化等）
● 清洗精細(xì)零部件及敏感材質(zhì)的表面（如：輕金屬合金）
● 適用于清細(xì)的零件和高度敏感材質(zhì)的表面（如：微電子元件、精細(xì)的光學(xué)元件）
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