反滲透凈水設(shè)備廠家
反滲透凈水設(shè)備廠家一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
設(shè)備工藝流程
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)濾床→陰樹(shù)脂過(guò)濾床→陰陽(yáng)樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
設(shè)備技術(shù)特點(diǎn):
1、低噪音設(shè)計(jì),采用去離子水機(jī)*泵,全封閉設(shè)計(jì)。
2、多重保護(hù),低壓自動(dòng)停機(jī),高壓保護(hù),低壓停機(jī)。
3、高回收率,50-80%,回收率可自由調(diào)節(jié)。
4、前處理自清洗設(shè)計(jì),更耐用。
5、水質(zhì)不合格自動(dòng)報(bào)警或停機(jī)。
應(yīng)用范圍
·化工材料的生產(chǎn)和加工過(guò)程所用的溶劑及清洗過(guò)程
·超純材料和超純化學(xué)試劑
·實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間
·電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材
·石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純
·高純墨水、傳真打印機(jī)中的噴墨、納米墨水
本公司提供的服務(wù)
1. 水處理工藝設(shè)計(jì)。
2. 水處理項(xiàng)目投資報(bào)告、可行性分析。
3. 水處理系統(tǒng)安裝調(diào)試、技術(shù)施工服務(wù)。
4. 反滲透設(shè)備維護(hù)、清洗、保養(yǎng)及售后服務(wù)。
5. 技術(shù)培訓(xùn)。
6. 工程施工管理及技術(shù)監(jiān)督,跟蹤服務(wù)。