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PE-ALD 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī)

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公司名稱(chēng)深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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更新時(shí)間2021/7/13 20:26:08
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司，經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專(zhuān)業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù)，研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備，擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化，為廣大中國(guó)及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有：德國(guó)ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機(jī)，電子束光刻機(jī), 激光直寫(xiě)光刻機(jī)，紫外光刻機(jī)，微納3D打印機(jī)，德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積，英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，微波離子沉積機(jī)MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機(jī)，電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈，美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管，德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。生命科學(xué)/生物醫(yī)療產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀，電子顯微鏡，紫外設(shè)備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實(shí)驗(yàn)耗材等。并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。

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PE-ALD 德國(guó)Sentech 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī)，是在3D結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過(guò)在工藝循環(huán)過(guò)程中在真空腔室分步加入前置物實(shí)現(xiàn)。等離子增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）是用等離子化的氣態(tài)原子替代水作為氧化物來(lái)增強(qiáng)ALD性能的*方法。

PE-ALD 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī) 產(chǎn)品信息

PE-ALD 德國(guó)Sentech 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī)

原子層沉積（ALD）是在3D結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過(guò)在工藝循環(huán)過(guò)程中在真空腔室分步加入前置物實(shí)現(xiàn)。等離子增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）是用等離子化的氣態(tài)原子替代水作為氧化物來(lái)增強(qiáng)ALD性能的*方法。

SENTECH基于多年研發(fā)制造PECVD和ICPECVD的經(jīng)驗(yàn)，包括專(zhuān)有的PTSA技術(shù)，推出臺(tái)PEALD設(shè)備。新的ALD設(shè)備應(yīng)用SENTECH橢偏儀，使熱輔助和等離子輔助的操作和沉積過(guò)程都能得到監(jiān)控。

SENTECH使用激光橢偏儀和寬量程分光橢偏儀的前沿技術(shù)——超快在線橢偏儀來(lái)監(jiān)控逐層膜生長(zhǎng)。

臺(tái)PEALD設(shè)備已經(jīng)在布倫瑞克科技大學(xué)（TU Braunschweig）投入使用，用于生長(zhǎng)超高均勻性和密度的氧化膜，如Al2O3和ZnO等。

在Al2O3沉積過(guò)程中，基鋁（TMA）等離子產(chǎn)生的氧原子反應(yīng)，襯底溫度為80到200℃。PEALD薄膜厚度均勻性高、折射率變化小的特點(diǎn)。