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200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市藍星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2021/7/13 20:27:35
  • 訪問次數(shù)278
產(chǎn)品標簽:

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深圳市藍星宇電子科技有限公司，經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務，研發(fā)設計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準分子清洗機，等離子清洗機/去膠機等科研以及生產(chǎn)設備，擁有自主品牌及注冊商標。 同時我們代理歐美日多家高科技設備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務, 誠信的企業(yè)文化，為廣大中國及海外客戶提供的儀器設備和材料的整體解決方案。 應用領域: 半導體/微納，光電/光學, 生命科學/生物醫(yī)療等領域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等。 半導體/微納，光電/光學 產(chǎn)品主要有： 德國ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機，電子束光刻機, 激光直寫光刻機，紫外光刻機，微納3D打印機，德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積，英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機，微波離子沉積機MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機，電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈，美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管，德國Diener等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀，電子顯微鏡，紫外設備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實驗耗材等。 并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等客戶提供儀器設備和材料。
電子顯微鏡
德國Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) ，將平行板等離子體源設計與直接負載相結(jié)合。根據(jù)其模塊化設計，Etchlab 200可以升級為更大的抽油機、真空負載鎖和額外的氣體管道。
200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

德國Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng)

Cost-effectiveness

RIE plasma etcher Etchlab 200 combines parallel plate plasma source design with direct load.

成本效益：RIE等離子體蝕刻機Etchlab 200將平行板等離子體源設計與直接負載相結(jié)合。

可升級性：根據(jù)其模塊化設計，Etchlab 200可以升級為更大的抽油機、真空負載鎖和額外的氣體管道。

SENTECH控制軟件：用戶友好功能強大的軟件包括模擬GUI，參數(shù)窗口，食譜編輯器，數(shù)據(jù)日志，用戶管理。

Etchlab 200 RIE 等離子體蝕刻機是一種將RIE平行板電極設計的優(yōu)點與直接負載的低成本設計相結(jié)合的直接負載等離子體蝕刻機系列。Etchlab 200具有簡單快速的樣品加載功能，從零件到200a€‰mm或300a€‰mm直徑的晶圓片直接加載到電極或載體上。Etchlab 200的設計特點是靈活性、模塊化和占用空間小。大型診斷窗口位于頂部電極和反應器可以很容易地容納森泰克激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢圓度計端口可用于使用森泰克原位橢圓度計進行過程監(jiān)測。

Etchlab 200可配置用于處理與晶圓片直接加載兼容的材料，包括但不限于硅和硅化合物、復合半導體、介質(zhì)和金屬。

Etchlab 200由*的森泰克控制軟件操作，使用遠程現(xiàn)場總線技術(shù)和非常友好的通用用戶界面。





Etchlab 200

RIE plasma etcher

Open lid

For up to 200 mm wafers

Diagnostic windows for laserinterferometer and OES

Ellipsometer ports optionally available

RIE等離子體刻蝕機

打開蓋子

適用于200毫米晶圓

激光干涉儀和OES診斷窗口

橢圓偏振計端口可選

Etchlab 200 with loadlock
帶有l(wèi)oadlock的Etchlab 200

RIE etcher with loadlock

For 4 inch up to 8 inch wafers

Carriers for pieces and smaller wafers

Chlorine etching chemistry

Larger pumping unit

帶有l(wèi)oadlock的RIE蝕刻器

適用于4英寸到8英寸的晶圓片

片材和較小晶圓片的載體

氯腐蝕化學

更大的抽油機

Etchlab 200 ～ 300

RIE plasma etcher

Open lid

For up to 300 mm wafers

Diagnostic windows for laser interferometer and OES

RIE等離子體刻蝕機

打開蓋子

可用于300毫米晶圓

激光干涉儀和光學系統(tǒng)診斷窗口


關(guān)鍵詞：反應器
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