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SI 500 PPD等離子沉積機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/13 20:36:29
  • 訪問次數(shù)285
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
SI 500 PPD是一種*的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積介質(zhì)薄膜的工具,硅、碳化硅和其他材料。它是基于平面電容耦合等離子體源,真空加載鎖定,控溫基片電極,可選配低頻混頻,全控?zé)o油真空系統(tǒng)采用*的森泰克控制軟件,采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù),具有非常友好的通用用戶界面用于操作SI 500 PPD的用戶界面。
SI 500 PPD等離子沉積機(jī) 產(chǎn)品信息

德國 Sentech SI 500 PPD等離子沉積機(jī)

過程的靈活性

PECVD沉積工具SI 500 PPD的使用方便沉淀SiO2、SiNx、SiOxNy的標(biāo)準(zhǔn)工藝,a- si在室溫到350℃之間。

真空loadlock SI 500 PPD的特點(diǎn)是真空加載鎖定和干燥. 抽油機(jī)適用于無油、高產(chǎn)量和沉積過程的清潔度。

SENTECH控制軟件

用戶友好的強(qiáng)大軟件包括模擬GUI、參數(shù)窗口、食譜編輯器、數(shù)據(jù)日志和用戶管理。

SI 500 PPD是一種*的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積介質(zhì)薄膜的工具,硅、碳化硅和其他材料。它是基于平面電容耦合等離子體源,真空加載鎖定,

控溫基片電極,可選配低頻混頻,全控?zé)o油真空系統(tǒng)采用*的森泰克控制軟件,采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù),具有非常友好的通用用戶界面用于操作SI 500 PPD的用戶界面。

從直徑200毫米的晶圓片到裝載在載體上的各種基板,都可以在SI 500 PPD等離子體沉積儀。單片【真空負(fù)荷鎖定】保證了穩(wěn)定的工藝條件和可以方便地切換進(jìn)程。

SI 500 PPD等離子體增強(qiáng)沉積工具被配置成在a中沉積SiO2、SiNx、SiONx和a- SI薄膜

溫度范圍從室溫到350℃。解決方案可用于TEOS, SiC,以及其他具有液態(tài)或氣態(tài)前體的物質(zhì)。SI 500 PPD適用于介質(zhì)的沉積用于蝕刻掩膜、薄膜、鈍化膜、波導(dǎo)等的薄膜和非晶態(tài)硅。

SENTECH提供不同水平的自動(dòng)化,從真空盒加載到一個(gè)過程室到六個(gè)端口集群,不同的沉積和蝕刻模塊,以高靈活性或高吞吐量為目標(biāo)。SI 500 PPD也可以作為集群配置上的進(jìn)程模塊。


PECVD SI 500 PPD

PECVD等離子體沉積工具與真空loadlock

高達(dá)200毫米晶圓

襯底溫度從RT到350℃

低應(yīng)力薄膜可選低頻混頻

TEOS和其他液體前驅(qū)體的來源

干式抽油機(jī)

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