德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機DWL 2000，DWL 4000

德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機DWL 2000，DWL 4000

科研型與量產(chǎn)型兼具的激光直寫設(shè)備
高速、高靈活度與高精度的光學系統(tǒng)
4096階灰階光刻功能

DWL2000和DWL4000激光光刻系統(tǒng)為快速、靈活的高分辨率圖形產(chǎn)生器，用于制作光罩和直寫。這些系統(tǒng)的寫入面積高達200x200mm²與400x400mm²，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微結(jié)構(gòu)應(yīng)用里，需快速構(gòu)圖于光罩和硅片的方案。

。刻寫面積 200 x 200 mm2

?？虒懽钚〗Y(jié)構(gòu)尺寸 0.6 μm

。最小分辨距離 10 nm

。多種曝光模式

。3D 曝光模式

。CCD成像坐標校準系統(tǒng)

。雙面校準系統(tǒng)

。帶溫度控制的機殼

。可選配客戶的激光光源

。光學及氣壓控制自動對焦

。腳本擴展功能

。支持多種客戶圖形格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)

。在線圖形數(shù)據(jù)傳輸

。平臺坐標矩陣校正

。自動上板系統(tǒng)

應(yīng)用于高分辨率掩膜版制作的激光成像設(shè)備

DWL 4000平臺移動范圍達到400 mm x 400 mm，可以的支持高精度的掩模板和干板繪刻。DWL 4000可應(yīng)用于MEMS, SAW Devices, ASICS, MCMs等復(fù)雜的微觀集成光路和顯示技術(shù)。

DWL 4000分為兩種型號，一種為DWL 4000DD，一種為DWL 4000FBM。除了傳統(tǒng)的2D繪刻功能外，新型設(shè)備還支持復(fù)雜的3D圖形繪刻，例如：利用灰階技術(shù)去制作微光學應(yīng)用。

。刻寫面積 400 x 400 mm2

?？虒懽钚〕叽缃Y(jié)構(gòu) 0.6 μm

。最小分辨距離 10 nm

。多種曝光模式

。自動更換寫頭

。高級3D曝光模式

。測量及校準系統(tǒng)

。帶溫度控制的機殼

?？蛇x配客戶的激光光源

。在線圖形數(shù)據(jù)傳輸

。自動上板系統(tǒng)

。支持多種客戶圖形格式 (DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)

。平臺坐標矩陣校正