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PlasmaPro 80 ICPCVD 英國Oxford 牛津等離子沉積機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市藍星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2021/7/14 9:13:14
  • 訪問次數(shù)251
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深圳市藍星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務,研發(fā)設計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準分子清洗機,等離子清洗機/去膠機等科研以及生產(chǎn)設備,擁有自主品牌及注冊商標。 同時我們代理歐美日多家高科技設備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅持創(chuàng)新, 技術, 服務, 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設備和材料的整體解決方案。 應用領域: 半導體/微納,光電/光學, 生命科學/生物醫(yī)療等領域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構等。 半導體/微納,光電/光學 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機,電子束光刻機, 激光直寫光刻機,紫外光刻機,微納3D打印機,德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機,微波離子沉積機MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機,電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機等*技術產(chǎn)品。 生命科學/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設備,光譜/色譜/質譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實驗耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質的產(chǎn)品與服務,為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構等客戶提供儀器設備和材料。
電子顯微鏡
PlasmaPro 80 ICPCVD 英國Oxford 牛津等離子沉積機,是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng),可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸,是科學研究、原型設計和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高性能工藝。
PlasmaPro 80 ICPCVD 英國Oxford 牛津等離子沉積機 產(chǎn)品信息

牛津ICP等離子沉積機PlasmaPro 80 ICPCVD

PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng),可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸,是科學研究、原型設計和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高性能工藝。

。直開式設計允許快速裝卸晶圓
。出色的刻蝕控制和速率測定
。出色的晶圓溫度均勻性
。晶圓可達200mm
。購置成本低
。符合半導體行業(yè) S2 / S8標準

應用:

· III-V族刻蝕工藝

· 硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝

· 類金剛石

· 類金剛石(DLC)沉積

· 二氧化硅和石英刻蝕

· 用特殊配置的PlasmaPro FA設備進行失效分析的干法刻蝕解剖逆工藝,可處理封裝好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圓

· 高質量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅,用于光子學、電介質層、鈍化以及諸多其它用途

· 用于高亮度LED生產(chǎn)的硬掩模沉積和刻蝕

系統(tǒng)特點:

· 小型系統(tǒng)——易于安置

· 優(yōu)化了的電極冷卻——襯底溫度控制

· 高導通的徑向(軸對稱)抽氣結構—— 確保提升了工藝均勻性和速率

· 增加<500毫秒的數(shù)據(jù)記錄功能——可追溯腔室和工藝條件的歷史記錄

· 近距離耦合渦輪泵——提供*的泵送速度加快氣體的流動速度

· 關鍵部件容易觸及——系統(tǒng)維護變得直接簡單

· X20控制系統(tǒng)——大幅提高了數(shù)據(jù)信息恢復功能, 同時可以實現(xiàn)更快更可重復的匹配

· 通過前端軟件進行設備故障診斷——故障診斷速度快

· 用干涉法進行激光終點監(jiān)測——在透明材料的反射面上測量刻蝕深度 (例如硅上的氧化物),或者用反射法來確定非透明材料 (如金屬) 的邊界

· 用發(fā)射光譜(OES)實現(xiàn)較大樣品或批量工藝的終點監(jiān)測—— 監(jiān)測刻蝕副產(chǎn)物或反應氣體的消耗量的變化,以及用于腔室清洗的終點監(jiān)測

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