蔡司X射線顯微鏡Xradia610 & 620 Versa

  　　蔡司X射線顯微鏡Versa憑借優(yōu)異的大工作距離高分辨率(RaaD)的特性，成為了優(yōu)秀研究人員和科學(xué)家的“有力幫手”。在相對大工作距離下也能保持高分辨率，有助于產(chǎn)生意義非凡的科學(xué)見解和發(fā)現(xiàn)。隨著當今技術(shù)的快速發(fā)展，對分析儀器也提出了更高的要求，而蔡司Xradia 600 Versa系列就是專為應(yīng)對這一挑戰(zhàn)而設(shè)計的。

　　蔡司X射線顯微鏡Xradia 610 & 620 Versa采用改進的光源和光學(xué)技術(shù)

　　X射線計算機斷層掃描成像領(lǐng)域面臨的兩大挑戰(zhàn)是：實現(xiàn)大尺寸樣品和大工作距離下的高分辨率和高通量成像。蔡司推出的兩款X射線顯微鏡憑借以下優(yōu)勢解決了這些挑戰(zhàn)：系統(tǒng)可提供高功率的X射線源，顯著提高X射線通量，從而加快了斷層掃描速度。工作效率提高達兩倍，而且不會影響空間分辨率。同時，X射線光源的穩(wěn)定性得到提升，使用壽命也更長。

　　主要特性包括：

　　✔zui高空間分辨率500nm，zui小體素40 nm

　　✔與蔡司Xradia 500Versa系列相比，工作效率提高兩倍

　　✔更加簡便易用，包括快速激活源

　　✔能夠在較大的工作距離下對更廣的樣品類型和尺寸的樣品進行亞微米特征的觀察

　　更高的分辨率和通量

　　傳統(tǒng)斷層掃描技術(shù)依賴于單一幾何放大，而蔡司X射線顯微鏡Xradia Versa則將采用光學(xué)和幾何兩級放大，同時使用可以實現(xiàn)更快亞微米級分辨率的高通量X射線源。大工作距離下高分辨率成像技術(shù)(RaaD)能夠?qū)Τ叽绺蟆⒚芏雀叩臉悠?包括零件和設(shè)備)進行無損高分辨率3D成像。此外，可選配的平板探測器技術(shù)(FPX)能夠?qū)Υ篌w積樣品(重達25 kg)進行快速宏觀掃描，為樣品內(nèi)部感興趣區(qū)域的掃描提供了定位導(dǎo)航。

　　實現(xiàn)新的自由度

　　運用業(yè)界出色的3D X射線成像解決方案完成前沿的科研與工業(yè)研究 ：憑借zui大化利用吸收和相位襯度，幫助您識別更豐富的材料信息及特征。運用衍射襯度斷層掃描技術(shù)(LabDCT)揭示3D晶體結(jié)構(gòu)信息。*的圖像采集技術(shù)可實現(xiàn)對大樣品或不規(guī)則形狀樣品的高精度掃描。運用機器學(xué)習(xí)算法，幫助您進行樣品的后處理和分割。

　　優(yōu)異的4D/原位解決方案

　　蔡司Xradia 600 Versa系列能夠在可控環(huán)境下進行材料3D無損微觀結(jié)構(gòu)表征的動態(tài)過程。憑借Xradia Versa在大工作距離下仍可保持高分辨率成像的特性，可將樣品放置到樣品艙室或高精度原位加載裝置中進行高分辨率成像。Versa可與蔡司其它顯微鏡無縫集成，解決多尺度成像方面的挑戰(zhàn)。