BS/JEBG/EBG 系列電子槍：
用于光學(xué)薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源。
產(chǎn)品規(guī)格：
型號(hào) | 輸出功率 | 偏轉(zhuǎn)角度 | 燈絲 | 電子束掃描 | 坩堝 | 氧化物 | 金屬 |
BS-60060DEBS | 6.4kW | 270° | Ｕ字形 | 快速 | 無(wú)*2 | ◎ | ○ |
BS-60050EBS | 10kW | 270° | 無(wú)*2 | ◎ | ○ |
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BS-60040VDGN | 10kW | 270° | 無(wú)*2 | ◎ | ○ |
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BS-60030DGN | 10kW | 270° | 無(wú)*2 | ◎ | ○ |
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EBG-102UB6S | 10kW | 180° | 漩渦形 | 12cc×6 個(gè) | ◎ | ○ |
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EBG-102UB4S | 10kW | 180° | 12cc×4 個(gè) | ◎ | ○ |
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JEBG-102UH0 | 10kW | 180° | 無(wú)*2 | ◎ | ○ |
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BS-60210DEM | 10kW | 270° | 直線線圈形 | 中速 | 40cc×4 個(gè) | △ | ◎ |
BS-60210DEM | 10kW | 270° | 40cc×6 個(gè) | △ | ◎ |
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EBG-203UB6S | 20kW*1 | 270° | 漩渦形 | 快速 | 12cc×6 個(gè)*3 | ○ | ◎ |
EBG-203UB4H | 20kW*1 | 270° | 12cc×2 個(gè) 28cc | ○ | ◎ |
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JEBG-203UA0 | 20kW*1 | 270° | 無(wú)*4 | ○ | ◎ |
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JEBG-303UA | 30kW*1 | ° |
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· *1: EB電源輸出功率為16kW，實(shí)際能使用的輸出功率為16kW。
· *2: 可以定制 ⇒12cc×4 或6個(gè) 等
· *3: 坩堝小凹孔的形狀可以改變 ⇒ 28cc（φ45×20h）×6個(gè)， 51cc（φ60×20h）×3個(gè)等。
· *4: 可以定制 ⇒40cc（φ50×25h）×4或6個(gè)， 114cc（φ75×30h）×1個(gè)等
· *5: 可以定制 ⇒114cc（φ75×30h）×1個(gè)， φ34×20h×3個(gè)小凹穴（同時(shí)蒸鍍用）， φ70×30h×4個(gè) 等
產(chǎn)品特點(diǎn)：
· 用于光學(xué)薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源。
· 電子束蒸鍍法的特征
· 用電子束直接照射鍍膜材料進(jìn)行加熱，因此熱效率高，能蒸發(fā)高熔點(diǎn)金屬、氧化物、化合物、升華性物質(zhì)等各種材料。
。鍍膜材料在水冷銅坩堝內(nèi)(*)被直接加熱，因此不會(huì)象電阻加熱式或感應(yīng)加熱式那樣與坩堝發(fā)生反應(yīng)。
*可能需要使用坩堝內(nèi)襯。
· 能迅速控制輸出，因而能精確地控制膜厚。
· 與濺射法及 CVD 法相比，能快速鍍膜是一大特征。
對(duì)形成1µm 以上的厚膜也很有效。
· 日本電子制造的電子槍/電源的特征
· [ 氧化物 ]
電子束垂直照射鍍膜材料，束斑近似圓形，具有能量密度高的特征。此外，由于標(biāo)準(zhǔn)配備了快速掃描功能，非常適合蒸鍍?nèi)邳c(diǎn)高、熱傳導(dǎo)性低的氧化物及升華性材料，能獲得良好的熔痕，大面積的鍍膜區(qū)域上膜厚分布均勻，重現(xiàn)性好。
[ 金屬 ]
坩堝的選擇范圍很大，能進(jìn)行多種、大量、高速率的蒸鍍，還有用來(lái)抑制成膜時(shí)溫度上升的剝離工藝用電子槍。
[ 合金復(fù)合膜 ]
往臨近的兩個(gè)或三個(gè)坩堝內(nèi)充填不同的材料，使用專(zhuān)用的掃描控制器進(jìn)行雙源或三源蒸發(fā)，可以形成合金膜和復(fù)合膜。
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