強激光用電介質膜反射鏡
強激光用電介質膜反射鏡是日本西格瑪光機中國一級代理商廣州譽立電子科技有限公司備有基波(1030nm) ,2次諧波(515nm),3次諧波(343nm),4次諧波(257nm)等多種波長使用的反射鏡。
反射率高。經過多次反射后的光量衰減小。
使用吸收小的電介質膜,適合承受大功率激光的連續(xù)照射。
信息:
承接定制產品目錄上沒有的尺寸或波長特性的反射鏡。歡迎利用客戶問詢單咨詢。
可申請定制在低散亂基板上鍍強激光用多層電介質膜。
備有保證鍍膜后面精度的反射鏡(HTFM)。
注意:
請務必確認入射激光光束的能量密度是否低于激光損傷閾值。
透鏡或凹面反射鏡匯聚過的光束,更要注意確認其能量密度是否超過元件固有的激光損傷閾值,否則容易發(fā)生激光損傷。
存在一定的透過光(透過率一般小于1%)。但,光束功率很大時,請務必在反射鏡后面,也采取必要的安全防護措施。
入射光束的偏振狀態(tài)影響反射率。與S偏光相比,P偏光入射時的反射率略低,適用波長范圍也略窄。
樣本上的技術指標中的反射率是P偏光和S偏光的反射率的算術平均值。
用于設計波長之外的波長區(qū)域時,反射率會降低。
通用指標:
材質 | 合成石英 |
鍍膜 | 多層電介質膜 |
入射角度 | 45°±3° |
基板面型精度 | λ/10 |
平行度 | <3′ |
表面質量 | 10?5 |
有效直徑 | 外徑的90% |
反面 | 光學拋光 |
技術指標:
技術數(shù)據(jù)/外形圖
功能說明圖:
反射率波長特性(參考數(shù)據(jù))