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OAI 5000E 光刻機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/19 20:25:13
  • 訪問次數(shù)267
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
OAI 5000E 光刻機(jī), OAI 5000E型大面積掩光刻機(jī)是一種*的高性能,全自動掩模對準(zhǔn)器和曝光工具,可為大型平板應(yīng)用提供超精密,,亞微米對準(zhǔn)和分辨率。 其靈活的設(shè)計(jì)允許在各種基材(圓形或方形)上印刷高達(dá)300mm或2020。 曝光系統(tǒng)兼容近,中,或深紫外范圍的光刻膠,并具有計(jì)算機(jī)控制的LED顯微鏡照明,在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。
OAI 5000E 光刻機(jī) 產(chǎn)品信息

OAI 5000E 光刻機(jī)


詳細(xì)介紹

型號5000E大面積光刻機(jī)用于基板和顯示器

OAI 5000E型大面積掩光刻機(jī)是一種*的高性能,全自動掩模對準(zhǔn)器和曝光工具,可為大型平板應(yīng)用提供超精密,,亞微米對準(zhǔn)和分辨率。 其靈活的設(shè)計(jì)允許在各種基材(圓形或方形)上印刷高達(dá)300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近,中,或深紫外范圍的光刻膠,并具有計(jì)算機(jī)控制的LED顯微鏡照明,在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。


Model 5000E Large Area Mask Aligner for Substrates and Displays
The OAI Model 5000E Large Area Mask Aligner is an advanced, high-performance, fully-automated mask Aligner and exposure tool that delivers ultra precise, Topside, sub-micron alignment and resolution for large, flat panel applications. Its flexible design allows printing on various substrates - round or square - up to 300mm or 20”x20”. The exposure system is compatible with photo resist in Near, Mid, or Deep UV range, and features computer-controlled LED microscope lighting for viewing in less-than-ideal viewing environments.

關(guān)鍵詞:顯微鏡
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