HI84500二氧化硫技術(shù)指標(biāo) | |
測量范圍 | 1.0 to 40.0 mg/L(ppm)SO2、3.0 to 400 mg/L(ppm)SO2 |
解析度 | 0.1 mg/L(ppm)SO2【低量程】、1 mg/L(ppm)SO2【高量程】 |
精度@25oC/77oF | 讀數(shù)的 3% 或 ±0.5 ppm,以較大者為準(zhǔn)【低量程】 |
樣品量 | 50 mL |
滴定方法 | 等電位氧化還原滴定原理 |
泵技術(shù)指標(biāo) | 攪拌速度:700rpm;泵轉(zhuǎn)速:10mL/分鐘 |
氧化還原mV技術(shù)指標(biāo) | |
測量范圍 | -2000.0 to 2000.0 mV |
解析度/精度 | 0.1 mV;@25oC/77oF±1.0 mV |
其他技術(shù)指標(biāo) | |
配置電極 | HI3148B 內(nèi)置識別功能可填充玻璃復(fù)合氧化還原電極 |
數(shù)據(jù)管理 | 多達(dá)400個數(shù)據(jù)存儲【200個滴定數(shù)據(jù)存儲,200個 mV數(shù)據(jù)存儲】 |
電源模式 | AC230V/12VDC 電源適配器【HI710006】 |
適用環(huán)境 | 0 to 50°C(32 to 122°F); max RH95%【無冷凝】 |
尺寸重量 | 主機尺寸: 235 x 200 x 150 mm (9.2 x 7.9 x 5.9”);主機重量:1.9 kg (67.0 oz.) |
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HI84500 產(chǎn)品信息
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