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電子束光刻膠

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/22 21:03:52
  • 訪問次數(shù)571
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司，經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù)，研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備，擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化，為廣大中國(guó)及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有： 德國(guó)ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機(jī)，電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī)，紫外光刻機(jī)，微納3D打印機(jī)，德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積，英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，微波離子沉積機(jī)MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機(jī)，電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈，美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管，德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀，電子顯微鏡，紫外設(shè)備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
E-Beam 電子束光刻膠 ：HSQXR-1541-006, Z520, PMMA, EBL6000系列，Ma-N2400系列。納米壓印膠：mr-NIL 6000E, mr-L 900M, mr-UVCur21.光固化膠：Ormo 系列
電子束光刻膠 產(chǎn)品信息

電子束光刻膠

詳細(xì)介紹：

類型

光刻膠型號(hào)

適用光譜厚度范圍/um分辨率適用工藝

電子束光刻膠

HSQXR-1541-006

EB

85nm~180nm

6nm

分辨率負(fù)膠，抗刻蝕

Z520

0.05-1

10-50nm

高分辨率電子束正膠,抗刻蝕

PMMA

電子束正膠

EBL 6000系列

0.1-0.5

50nm

負(fù)性電子束光刻膠

ma-N2400系列

0.1-1.5

30nm

負(fù)性電子束光刻膠

納米壓印膠

mr-NIL 6000E

熱固化和UV固化

0.1-1

50nm

可用于納米圖形的制造、刻蝕、多層系統(tǒng)等

mr-I 9000M

熱固化

0.1-1

50nm

mr-UVCur21

UV固化

0.1-5

50nm

光固化膠

Ormo系列

g/h/i-Line

0.1-300

50nm

適用于制造光柵、微型鏡片、光耦合器和連接器等

3.jpg

電子束光刻膠 （e-beam resist）

類型

型號(hào)

特性

正膠

SX AR-P 6200

NEW!

超高分辨率電子束正膠，通過簡(jiǎn)單的工藝即可得到10nm甚至更小的結(jié)構(gòu)。超高深寬比（20:1）、超高對(duì)比度（>15）。良好的耐干法刻蝕性能，是傳統(tǒng)PMMA膠的2倍。

*可以取代ZEP膠，經(jīng)濟(jì)實(shí)惠，并且采購(gòu)簡(jiǎn)單，包裝規(guī)格多樣化。

AR-P617

PMMA/MA共聚物

適合目前各種應(yīng)用需要的電子束光刻膠。靈敏度高，是普通PMMA膠的3~ 4倍，對(duì)比度亦高于PMMA。 PMMA/MA共聚物也可以和PMMA通過雙層工藝實(shí)現(xiàn)lift-off工藝。

PMMA

PMMA（polymethyl methacrylate）是電子束曝光工藝中的正性光刻膠，是由單體甲基丙烯酸甲酯（methyl methacrylate, MMA）經(jīng)聚合反應(yīng)而成。

PMMA膠最主要的特點(diǎn)是高分辨率、高對(duì)比度、低靈敏度。

PMMA膠種類齊全，不同的系列中包含了各種分子量（50K, 200K, 600K, 950K），各種溶劑（氯苯，乳酸乙酯，苯甲醚）以及各種固含量的PMMA膠，以滿足各類電子束光刻的工藝要求。

PMMA膠可用于單層或雙層電子束曝光、轉(zhuǎn)移碳納米管或石墨烯、絕緣層等多種工藝。

（注：工廠可根據(jù)用戶的需求，定制所需分子量、固含量的PMMA膠。）

AR-P 6510

AR-P 6510是在PMMA的基礎(chǔ)上開發(fā)的厚膠。 另外，廠商可以根據(jù)客戶的具體需求來生產(chǎn)其他分子量的LIGA工藝用膠。主要用于LIGA工藝和X-Ray 曝光工藝。此類光刻膠型號(hào)齊全，厚度從10~250μm不等，圖形剖面陡直。

負(fù)膠

AR-N 7520

AR-N 7500

電子束負(fù)膠，高分辨率（30nm），對(duì)比度高（> 5），良好的耐等離子刻蝕性能，可以用于混合曝光。靈敏度中等，介于AR-N 7700和PMMA之間。

AR-N 7700

電子束負(fù)膠，化學(xué)放大膠，高靈敏度，高對(duì)比度，良好的耐等離子刻蝕刻蝕性能，可以用于混合曝光。

AR-N 7720

電子束負(fù)膠，用于三維曝光工藝。 化學(xué)放大膠，高靈敏度，對(duì)比度非常?。?1），非常適合制作三維結(jié)構(gòu)；也可以用于衍射光學(xué)及全息器件的加工。

X AR-N 7700/30

SX AR-N 7700/37

化學(xué)放大負(fù)膠，高分辨率，良好的耐等離子刻蝕能力，適合混合曝光。高靈敏度，靈敏度比AR-N 7700更高。

配套試劑
（Process chemicals）

類型

型號(hào)

特性

顯影液

AR 300-26, -35

紫外光刻膠用 顯影液

AR 300-44,-46,-47, -475

紫外/電子束光刻膠用 顯影液

AR 600-50,-51,-55,-56

PMMA膠用 顯影液

定影液

AR 600-60,-61

電子束光刻膠用 定影液

除膠劑

AR 300-70, -72, -73,600-70

紫外/電子束光刻膠用 除膠劑

稀釋劑

AR 600-01…09

PMMA膠 稀釋劑

AR 300-12

紫外/電子束光刻膠用 稀釋劑

增附劑

AR 300-80, HMDS

紫外/電子束光刻膠用 增附劑

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