簡(jiǎn)介
MPVAP是用于在基板上沉積金屬薄膜的真空沉積設(shè)備。
作為一種真空沉積系統(tǒng)，用于各種納米級(jí)厚度的金屬膜涂覆基材和樣品。該系統(tǒng)還可形成用于生長(zhǎng)垂直排列的CNT的催化劑薄膜。
帶有渦輪分子泵（TMP）的真空排氣系統(tǒng)可創(chuàng)建不需要維護(hù)的干凈真空環(huán)境。該系統(tǒng)只需按一下按鈕即可執(zhí)行全自動(dòng)真空排氣操作；因此，減少了錯(cuò)誤操作的可能性，不了解真空系統(tǒng)的用戶也可以輕松地將該系統(tǒng)用于實(shí)驗(yàn)。系統(tǒng)中的兩種蒸氣源可以形成多層膜和復(fù)合膜。該系統(tǒng)還配備了石英晶體膜厚監(jiān)測(cè)儀，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和控制0.01 nm的膜厚。
具有360度旋轉(zhuǎn)的立方體的大面積基板支架，將用于放置樣品的面積增加了四倍。該系統(tǒng)可以在一個(gè)過(guò)程中以4種成膜條件生產(chǎn)樣品，而不會(huì)終止真空狀態(tài)。
旋轉(zhuǎn)樣品架時(shí)沉積薄膜可以從所有方向（對(duì)角線方向）在三維樣品上形成薄膜。在將金屬膜涂覆在樣品上進(jìn)行SEM觀察的情況下，它的功能可創(chuàng)建清晰的三維SEM圖像。
另外，通過(guò)使用這種旋轉(zhuǎn)保持器，可以避免與蒸發(fā)入口閘板的打開(kāi)和關(guān)閉相關(guān)的輻射熱波動(dòng)的問(wèn)題。從技術(shù)上講，由常用的石英晶體薄膜厚度監(jiān)視器產(chǎn)生的厚度數(shù)據(jù)對(duì)傳感器的溫度波動(dòng)敏感。同時(shí)打開(kāi)和關(guān)閉蒸發(fā)入口百葉窗會(huì)產(chǎn)生從熱蒸發(fā)坩堝發(fā)射到傳感器的輻射熱波動(dòng)，從而產(chǎn)生與實(shí)際膜厚不同的數(shù)據(jù)。如果是旋轉(zhuǎn)支架，在蒸發(fā)坩堝的溫度保持恒定時(shí)，可以通過(guò)從一開(kāi)始就打開(kāi)閘門(mén)并旋轉(zhuǎn)立方支架來(lái)開(kāi)始和完成在基板上的沉積。該過(guò)程不會(huì)在傳感器上產(chǎn)生輻射熱的波動(dòng)，并實(shí)現(xiàn)了對(duì)膜厚的控制。
特征
- 配備360度可旋轉(zhuǎn)立方樣品架
- 在一個(gè)過(guò)程中實(shí)現(xiàn)4種不同的沉積條件，或者可設(shè)置4次樣品
- 可以在傾斜方向或在樣品的兩側(cè)進(jìn)行沉積
- 配備了兩個(gè)坩堝，可進(jìn)行多層沉積
- 自動(dòng)真空排氣操作
- 配備石英晶體膜厚監(jiān)測(cè)儀
MPVAP-VacHolder簡(jiǎn)介
某些樣品（例如純金屬）應(yīng)遠(yuǎn)離空氣，因?yàn)樗鼈儠?huì)與空氣中的氧氣發(fā)生反應(yīng)。在一些應(yīng)用中，需要在真空沉積設(shè)備中將這些類(lèi)型的材料或設(shè)備用金屬膜涂覆而不暴露于空氣。
為了實(shí)現(xiàn)這些應(yīng)用，應(yīng)將樣品放在裝有惰性氣體的手套箱中的樣品架上，并在將樣品轉(zhuǎn)移到真空沉積設(shè)備中的同時(shí)保持真空。
MPVAP-VacHolder 是一種特殊的真空樣品架，用于將樣品放置在手套箱中，而不會(huì)將樣品暴露于濕氣或氧氣中。可以將真空保持器腔室中的樣品轉(zhuǎn)移到真空沉積設(shè)備（MPVAP）中，然后在真空中涂上金屬薄膜。
特征
- 樣品架嵌入真空室中
- 體積小巧，可輕松轉(zhuǎn)移至雜物箱
- 支架腔可在手套箱中抽空
- 保持室的蓋在真空沉積設(shè)備中自動(dòng)打開(kāi)
- 可以添加樣品架360度旋轉(zhuǎn)功能
MPVAP-Powder簡(jiǎn)介
真空沉積設(shè)備是一種流行的工具，用于在基板，設(shè)備或物體上沉積金屬薄膜。在大多數(shù)情況下，源坩堝位于下方，而樣品架位于上方。
在某些應(yīng)用中，粉末樣品需要與金屬薄膜一起沉積。在這種情況下，樣品應(yīng)位于下方。為了能夠在粉末樣品上進(jìn)行沉積，開(kāi)發(fā)了真空沉積設(shè)備MPVAP-Powder。在該設(shè)備中，源材料的坩堝位于樣品架上方，并且源從上到下蒸發(fā)。在沉積過(guò)程中，位于下方的樣品容器會(huì)連續(xù)振動(dòng)，從而攪拌樣品粉末并實(shí)現(xiàn)均勻沉積。
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