1 、濺射真空室:真空室為圓筒形前開門結構,尺寸Ф450mmx400mm,全不銹鋼結構??蓛群婵镜?00~150℃,選用不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面進行電化學拋光鈍化處理,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封;手動前開門結構;靶安裝在下蓋板,基片轉臺在上法蘭;
2 、磁控濺射系統(tǒng):永磁靶(其中一個可濺射磁性材料),射頻濺射與直流濺射兼容,靶內水冷;氣動控制擋板組件,各靶可獨立/順次/共同工作; 500W直流電源1臺; 500W全自動調諧射頻電源2臺, -200V直流偏壓電源1臺
3 、旋轉轉基片臺 :基片通過進口加熱絲加熱方式,加熱溫度:室溫—800°C,由熱電偶閉環(huán)反饋控制,可控可調;基片自轉由調速電機驅動,0—20轉/分連續(xù)可調,樣品擋板組件 1套