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KRI 考夫曼離子源 KDC 系列伯東代理

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱伯東企業(yè)(上海)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時間2021/12/28 14:04:18
  • 訪問次數(shù)202
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  伯東企業(yè)(上海)有限公司 專業(yè)代理各國真空產(chǎn)品位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
 
  伯東企業(yè)(上海)有限公司 ()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,HVA 高真空閥門。
 
  公司一直堅持品質(zhì)*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認證、ISO14001-1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團化發(fā)展。
氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,原子力顯微鏡,高低溫測試機,離子源,真空閥門
產(chǎn)地 進口 產(chǎn)品新舊 全新
上海伯東美國進口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強設(shè)計輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.
KRI 考夫曼離子源 KDC 系列伯東代理 產(chǎn)品信息
KRI 考夫曼離子源 KDC 系列

美國 KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列
上海伯東美國進口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強設(shè)計輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.
美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準離子光學和開關(guān)式電源控制. 考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用. 考夫曼離子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼離子源, 電子中和器, 電源供應(yīng)器等等可以直接整合在各類真空設(shè)備中, 例如實驗室小型研發(fā), 鍍膜機, load lock, 濺射系統(tǒng), 卷繞鍍膜機和線性鍍膜.

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 特性:
通過加熱燈絲產(chǎn)生電子
低電流高能量寬束型離子源

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 應(yīng)用:
輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD
濺鍍&蒸鍍 PC
表面改性, 激活 SM
沉積 DD
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE
 

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 技術(shù)參數(shù):

型號

KDC 10

KDC 40

KDC 75

KDC 100

KDC 160

Discharge 陽極

DC 電流

DC 電流

DC 電流

DC 電流

DC 電流

離子束流

>10 mA

>100 mA

>250 mA

>400 mA

>650 mA

離子動能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

柵極直徑

1 cm Φ

4 cm Φ

7.5 cm Φ

12 cm Φ

16 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射


流量

1-5 sccm

2-10 sccm

2-15 sccm

2-20 sccm

2-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

長度

11.5 cm

17.1 cm

20.1 cm

23.5 cm

25.2 cm

直徑

4 cm

9 cm

14 cm

19.4 cm

23.2 cm

中和器

燈絲


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進一步的了解考夫曼離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生                                  中國臺灣伯東: 王小姐


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