大口徑射頻離子源 RFICP 380
上海伯東美國 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計(jì), 柵極口徑 38cm, 提供離子動(dòng)能 100-1200eV 寬束離子束, 套裝包含離子源本體和電源控制器.
-------------- 離子源自動(dòng)控制器 -------------- -------- 射頻離子源 RFICP 380 本體 ----
射頻離子源 RFICP 380 特性
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時(shí)間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動(dòng)匹配
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計(jì)
3. 離子光學(xué), 自對準(zhǔn)技術(shù), 準(zhǔn)直光束設(shè)計(jì), 自動(dòng)調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復(fù)的工藝運(yùn)行
4. 全自動(dòng)控制器
5. 離子束動(dòng)能 100-1200eV
射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)規(guī)格:
陽極 | 電感耦合等離子體 |
陽極功率 | >1kW |
離子束流 | > 1000mA |
電壓范圍 | 100-1500V |
離子束動(dòng)能 | 100-1200eV |
氣體 | Ar, O2, N2,其他 |
流量 | 5-50sccm |
壓力 | < 0.5mTorr |
離子光學(xué), 自對準(zhǔn) | OptiBeamTM |
離子束柵極 | 38cm Φ |
柵極材質(zhì) | 鉬或石墨 |
離子束流形狀 | 平行,聚焦,散射 |
中和器 | LFN 2000 |
高度 | 38.1 cm |
直徑 | 58.2 cm |
鎖緊安裝法蘭 | 12”CF |
射頻離子源 RFICP 380 尺寸:
大口徑射頻離子源典型應(yīng)用:
射頻離子源安裝在 1650 mm 蒸鍍機(jī)中, 實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean, 完成 LED-DBR 鍍膜生產(chǎn)
在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試
--------- 使用其他品牌離子源--- --------------------- 使用美國 KRI 射頻離子源 ----------------------
從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國 KRI 射頻離子源, 樣品無崩邊
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng). 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
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上海伯東: 羅先生 中國臺(tái)灣伯東: 王小姐
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