U-SMPS2050/2100/2200

Palas

通用掃描遷移率粒度儀，適合各種應(yīng)用（8–1200nm）

?    粒徑分布從8 nm到1.2 µm

?    連續(xù)和快速掃描的測(cè)量原理

?    高分辨率，最多128個(gè)大小類(lèi)/衰減

?    適用于高達(dá)108顆粒數(shù)/立方厘米的濃度

?    可以連接其他制造商的DMA和納米粒子計(jì)數(shù)器

?    圖形顯示測(cè)量值

?    直觀操作，使用7英寸觸摸屏和GUI

?    集成數(shù)據(jù)記錄儀

?    支持多種接口和遠(yuǎn)程訪(fǎng)問(wèn)

?    低維護(hù)

?    功能可靠

?    減少您的運(yùn)營(yíng)費(fèi)用 *請(qǐng)聯(lián)系Palas®了解更多信息。

圖1：U-SMPS 2050/2100/2200

Palas®通用掃描遷移率粒度儀（U-SMPS）有兩個(gè)版本。長(zhǎng)分類(lèi)柱（2050/2100型）能夠可靠地確定8至1,200 nm的粒徑分布。 Palas®U-SMPS系統(tǒng)包括一個(gè)分類(lèi)器[在ISO 15900中定義為差分電遷移率分類(lèi)器（DMA），也稱(chēng)為差分遷移率分析器（DEMC）]，根據(jù)氣溶膠顆粒的電遷移率選擇并傳遞給出口。

然后通過(guò)冷凝顆粒計(jì)數(shù)器（例如Palas®UF-CPC）對(duì)這些顆粒進(jìn)行計(jì)數(shù)。三種可用的UF-CPC模型可實(shí)現(xiàn)各種濃度范圍內(nèi)的單顆粒計(jì)數(shù)。 Wiedensohler教授（德國(guó)IfT萊比錫）開(kāi)發(fā)了Palas®的算法，用于對(duì)測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行反演以產(chǎn)生U-SMPS粒度分布。

U-SMPS使用觸摸屏上的圖形用戶(hù)界面進(jìn)行操作。單個(gè)粒子分布掃描可以在短短30秒內(nèi)執(zhí)行，或者，每十個(gè)通道最多執(zhí)行64個(gè)尺寸通道，在此期間，DEMC分類(lèi)器中的電壓連續(xù)變化，從而導(dǎo)致每個(gè)尺寸通道的計(jì)數(shù)統(tǒng)計(jì)更高。集成的數(shù)據(jù)記錄器允許在設(shè)備上以線(xiàn)性和對(duì)數(shù)顯示測(cè)量值。隨附的評(píng)估軟件提供各種數(shù)據(jù)評(píng)估（廣泛的統(tǒng)計(jì)和平均）以及導(dǎo)出功能。

U-SMPS通常作為獨(dú)立設(shè)備運(yùn)行，但也可以使用各種接口（USB，LAN，WLAN，RS-232/485）連接到計(jì)算機(jī)或網(wǎng)絡(luò)。 Palas®U-SMPS支持其他制造商的各類(lèi)DMA、CPC和氣溶膠靜電計(jì)。

U-SMPS的準(zhǔn)確尺寸測(cè)定和可靠性能十分重要，對(duì)于校準(zhǔn)來(lái)說(shuō)尤其如此。所有組件都通過(guò)嚴(yán)格的質(zhì)量保證測(cè)試，并在內(nèi)部組裝。
圖2展示U-SMPS的工作原理：

氣溶膠在進(jìn)入分類(lèi)器（DEMC列）之前經(jīng)過(guò)調(diào)節(jié)。可選的干燥器（例如硅膠，Nafion）可以去除顆粒中的水分。使用雙極中和劑（例如Kr 85）來(lái)確保測(cè)定的氣溶膠電荷分布。為了去除大于分類(lèi)機(jī)尺寸范圍的顆粒，需要在DEMC的入口處使用撞擊器。

圖2：通用掃描遷移率粒度儀（U-SMPS）的工作原理

然后，氣溶膠通過(guò)入口導(dǎo)入DEMC色譜柱。沿著外部電極的氣溶膠流在此與護(hù)套氣流仔細(xì)合并。重要的是，在此處應(yīng)避免任何湍流，以確保層流。電極的表面在光滑度和公差方面必須具有*的質(zhì)量。

鞘空氣是干燥的、無(wú)顆粒的載氣（通常是空氣），其體積大于連續(xù)在閉環(huán)中循環(huán)的氣溶膠的體積。鞘空氣與樣品空氣的體積比定義傳遞函數(shù)，從而定義尺寸分類(lèi)器的分辨率。

通過(guò)施加電壓在內(nèi)和外電極之間產(chǎn)生徑向?qū)ΨQ(chēng)的電場(chǎng)。內(nèi)電極在末端具有小縫隙，帶正電。通過(guò)平衡每個(gè)粒子上的電場(chǎng)力及其在電場(chǎng)中的空氣動(dòng)力學(xué)阻力，帶負(fù)電的粒子被轉(zhuǎn)移到正電極。根據(jù)它們的電遷移率，一些顆粒會(huì)穿過(guò)狹縫并離開(kāi)DEMC。

在工作中，電壓和電場(chǎng)連續(xù)變化。結(jié)果，遷移率變化的粒子離開(kāi)DEMC，并由納米粒子計(jì)數(shù)器（例如縮合粒子計(jì)數(shù)器）（例如Palas®UF-CPC）連續(xù)進(jìn)行測(cè)量。

在實(shí)際條件下，經(jīng)過(guò)測(cè)試的軟件為組合數(shù)據(jù)（電壓、粒子數(shù)等）并獲得粒度分布提供特殊的處理功能，如圖3所示。

圖3：Palas®DNP 3000顆粒發(fā)生器產(chǎn)生的氣溶膠的粒徑分布

用戶(hù)界面和軟件

基于持續(xù)的客戶(hù)反饋，我們已設(shè)計(jì)良好的用戶(hù)界面和軟件，以實(shí)現(xiàn)直觀的操作、實(shí)時(shí)控制，并可以顯示測(cè)量數(shù)據(jù)和參數(shù)。

此外，軟件還通過(guò)集成的數(shù)據(jù)記錄器、完善的導(dǎo)出功能和網(wǎng)絡(luò)支持為數(shù)據(jù)管理提供支持?？梢允褂迷S多可用的顯示選項(xiàng)和測(cè)量數(shù)據(jù)評(píng)估功能。
技術(shù)參數(shù)