微波材料學(xué)工作站--微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

微波材料學(xué)工作站--微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

主要用途：
★該系統(tǒng)既可用作傳統(tǒng)的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，又可用作微波能化學(xué)氣相沉積設(shè)備，同時(shí)又是微波等離子化學(xué)氣相沉積設(shè)備
★主要為應(yīng)用在半導(dǎo)體, 大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料，石墨烯、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域
★該款具有高電離、高電子溫度和電子密度、適用壓強(qiáng)范圍寬、無(wú)內(nèi)部電極污染等優(yōu)異性能，微波等離子體在材料表面處理、金剛石薄膜制備、
化學(xué)氣相沉積、刻蝕以及甲烷轉(zhuǎn)化制氫、長(zhǎng)余輝發(fā)光材料、陶瓷燒結(jié)、碳納米管修飾［3］、納米粉體合成、處理水污染等領(lǐng)域

產(chǎn)品特點(diǎn)：
★垂直反應(yīng)器的設(shè)計(jì)可使等離子高密度；對(duì)稱的微波發(fā)生器裝置，使產(chǎn)生的等離子環(huán)境更均勻
★諧振腔內(nèi)沒(méi)有內(nèi)部電極，可以避免電極放電所產(chǎn)生的污染，而且，它的運(yùn)行氣壓范圍比較寬，所產(chǎn)生等離子體密度高、區(qū)域大，
    穩(wěn)定性高，且不與真空器接觸，從而避免了器壁對(duì)薄膜的污染
★操作便捷：氣路連接方式采用了KF快速連接法蘭結(jié)構(gòu)，使取放物料過(guò)程簡(jiǎn)化，只需一支卡箍便可完成氣路連接，方便操作，
     取消了復(fù)雜的法蘭安裝過(guò)程，減少了安裝造成的損壞
★多功能：4種加熱方式可選可變：微波等離子、純微波、傳統(tǒng)電加熱、混合加熱；適應(yīng)包括金屬與合金在內(nèi)非易燃的任何樣品的熱處理
★雙溫區(qū)結(jié)構(gòu)：上部等離子區(qū)或加熱區(qū)下部樣品臺(tái)加熱區(qū)
★開(kāi)發(fā)的微波場(chǎng)專用傳感器，精準(zhǔn)控溫
★安全：采用防止泄漏的聯(lián)鎖保護(hù)屏蔽措施安全可靠的微波屏蔽腔體設(shè)計(jì)，多重防泄漏保護(hù)
*標(biāo)配裝有專業(yè)微波抑制器
*內(nèi)置微波泄漏傳感器
★節(jié)能：使用壽命長(zhǎng)：磁控管微波加熱，避免和解決了傳統(tǒng)的加熱絲、硅碳棒、硅鉬棒等加熱元件容易損壞的問(wèn)題，也避免了因加熱元件
    損壞而造成的時(shí)間、實(shí)驗(yàn)進(jìn)度、維修費(fèi)用等各種損失
★采用無(wú)級(jí)可調(diào)、高穩(wěn)定度長(zhǎng)壽命、連續(xù)波微波源，確保設(shè)備能夠連續(xù)穩(wěn)定長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行
★嵌入式微機(jī)一體化溫度控制系統(tǒng)；實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定性控溫
★無(wú)須烘爐過(guò)程：爐腔整體自身發(fā)熱，加熱均勻
★微波能量即開(kāi)即有,無(wú)熱慣性,易于控制溫度
★配有萬(wàn)向輪調(diào)節(jié)底腳，方便移動(dòng)和固定

技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)/model	WBDQC-4
可加熱材料	非易燃易爆的任何材料
微波頻率	2.45GHZ±50MHz
加熱方式	等離子加熱、純微波加熱、傳統(tǒng)電加熱、混合加熱
功率/ KW(連續(xù)、可調(diào))	4
樣品腔長(zhǎng)度	標(biāo)配100mm可根據(jù)用戶需求訂制
加熱樣品腔(材質(zhì))	石英管（微波等離子工作模式）	石英管&剛玉管（其它加熱方式）
控溫范圍/℃	1100℃石英樣品腔直徑：Φ45mm、Φ60mm、Φ100 mm 可選；	1500℃剛玉樣品腔直徑：Φ45mm、Φ60mm 可選；
溫度測(cè)試元件	微波場(chǎng)專用傳感器
溫度分辨率/℃	0.1
樣品臺(tái)溫度范圍	室溫-1200℃、更高溫度可選配
控溫精度/℃	1200℃以下±1；1200℃以上±2℃
溫度偏差/℃
溫度穩(wěn)定波動(dòng)度/℃
冷卻方式	風(fēng)冷
恒溫區(qū)長(zhǎng)度/mm	標(biāo)配100mm可根據(jù)用戶需求訂制
升溫速率(標(biāo)配)	0～200℃/min（微波等離子工作模式除外） 任意設(shè)定，可編程、分段加熱
溫度控制方式	10段可設(shè)工藝參數(shù)，7寸觸摸屏操作，帶數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能；提供手動(dòng)、自動(dòng)、恒溫控制模式，曲線實(shí)時(shí)顯示
控制氣體	控制氣體：H2、CH4、Ar、N 2 、其它氣體可選
流量控制	標(biāo)配 2 套質(zhì)量流量控制器：七星華創(chuàng)（真空保護(hù)閥門(mén)后置，匹配真空模式）；精度：0.8%
耐壓	1MPa；控制響應(yīng)時(shí)間：10ms
真空系統(tǒng)真空泵	RVP2008；壓力范圍：10 -3 Torr~760 Torr 抽速：8.5m 3 /h
真空計(jì)	數(shù)顯真空計(jì)：1atm-10 -1 Pa
標(biāo)配	質(zhì)量流量自動(dòng)控制系統(tǒng)配備控制計(jì)算機(jī)及控制軟件，可以內(nèi)置實(shí)時(shí)顯示和保存生長(zhǎng)參數(shù)
氣路其他配置	氣柜、氣路及閥門(mén)等
端口	不銹鋼 KF50 法蘭接口
電源電壓（V）	220
微波泄漏量/ mW/㎝2	≤0.4
外型尺寸（長(zhǎng)´寬´高）/mm	1100×750×1900

選配功能：
質(zhì)量流量控制系統(tǒng)；美國(guó)Alicat質(zhì)量流量&控制器