微電子工業(yè)用純水設(shè)備
PCB線路板用純水設(shè)備統(tǒng)稱線路板清洗設(shè)備，PCB板純水設(shè)備,PCB純水機(jī)，因?yàn)榫€路板生產(chǎn)過程中常用到的電鍍銅，錫，鎳金;化學(xué)鍍鎳金;PTH/黑孔;表面處理蝕刻等生產(chǎn)過程都需要用到不同要求的純水，再者線路板生產(chǎn)過程中使用的藥水不同，生產(chǎn)工藝流程的差異，對(duì)純水的品質(zhì)要求也不一樣。
純水設(shè)備還可以應(yīng)用到其它電子產(chǎn)品清洗用水，用途和參考標(biāo)準(zhǔn)：
| 用途Applications | 用水指標(biāo)Water Indicators | 參考標(biāo)準(zhǔn)Reference standard |
| 單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產(chǎn)、半導(dǎo)體芯片相關(guān)、半導(dǎo)體設(shè)備清洗
| 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM
| 我國電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) |
| 單晶硅半導(dǎo)體集成電路塊，顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業(yè)
| 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM
| 美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) 我國電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
| 光學(xué)材料清洗用水、電子陶瓷行業(yè)用純水、磁性材料用純水
| 電阻率 10 ~17 MΩ.CM
| 我國電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) |
| 蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產(chǎn)
| 電阻率5 ~10 MΩ.CM
| 我國電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997 |
| 有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級(jí)新材料生產(chǎn)用水、航空新材料生產(chǎn)用水、ITO導(dǎo)電玻璃制造用水、電子級(jí)無塵布生產(chǎn)用水 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM
| 我國電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)，GB11446-1-1997
美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)
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主要工藝流程和出水指標(biāo)：
預(yù)處理+二級(jí)反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM）
預(yù)處理+二級(jí)反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM）
詳細(xì)工藝需根據(jù)原水及用水要求設(shè)計(jì)情況進(jìn)行設(shè)計(jì)
純水設(shè)備的主要特點(diǎn)
| ▼結(jié)合電子工業(yè)用水連續(xù)生產(chǎn)的特性，采用了膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作； ▼對(duì)于電子行業(yè)用水的特性，增強(qiáng)了對(duì)水中二氧化硅、重金屬和有機(jī)碳的脫除； ▼采用了氮封水箱解決了電子工業(yè)用水要求較高，水的儲(chǔ)存容易污染問題； ▼采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運(yùn)行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定； ▼在線水質(zhì)監(jiān)測控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測水質(zhì)變化，保障水質(zhì)安全； ▼全自動(dòng)電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單、安全； ▼切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì)，設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計(jì)，占地面積小，滿足客戶需求。 ▼運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低，自動(dòng)運(yùn)行，可以實(shí)現(xiàn)無人化管理操作。 |
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