合肥科晶 TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀

合肥科晶 TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀

產(chǎn)品概述：

TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀是一款利用反射光譜測試薄膜厚度的儀器，可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度而不損傷樣品表面的薄膜，是一款無損測厚儀，其測量膜厚范圍為15nm-50um，測量膜厚范圍廣，尤其適用于超薄薄膜厚度的測量。儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm，波長范圍廣，因此，測試薄膜厚度的范圍廣。TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀測試系統(tǒng)的理論基礎為鏡面光纖反射探頭，該儀器尺寸小巧可節(jié)省實驗室空間，操作方便，讀數(shù)直觀，方便于在實驗室中擺放和使用。

測量膜厚范圍：15nm-50um

光譜波長：400 nm - 1100 nm

主要測量透明或半透明薄膜厚度：

• 氧化物
• 氮化物
• 光刻膠
• 半導體（硅，單晶硅，多晶硅等）
• 半導體化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等）
• 硬涂層（碳化硅，類金剛石炭）
• 聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
• 金屬膜

合肥科晶 TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀

特點：

• 測量和數(shù)據(jù)分析同時進行，可測量單層膜，多層膜，無基底和非均勻膜
• 包含了500多種材料的光學常數(shù)，新材料參數(shù)也可很容易地添加，支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
• 體積較小，方便擺放和操作
• 可測量薄膜厚度，材料光學常數(shù)和表面粗糙度
• 使用電腦操作，界面中點擊，即可進行測量和分析

精度：0.01nm或0.01%

準確度：0.2%或1nm

穩(wěn)定性：0.02nm或0.02%

光斑尺寸：標準3mm,可以小至3um

要求樣品大小：大于1mm

分光儀/檢測器：

• 400 - 1100 nm 波長范圍
• 光譜分辨率: < 1 nm
• 電源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

光源：

• 5W的鎢鹵素燈
• 色溫：2800K
• 使用壽命:1000小時

反射探針：

• 光學纖維探針，400um纖維芯
• 配有分光儀和光源支架

載樣臺：測量時用于放置測量的樣品

通訊接口：USB接口，方便與電腦對接

TFCompanion軟件：

• 強大的數(shù)據(jù)庫包含兩500多種材料的光學常數(shù)（n：折射率，K：消失系數(shù)）
• 誤差分析和模擬系統(tǒng)，保證在不同環(huán)境下對樣品測量的準確性
• 可分析簡單和復雜的膜系

設備尺寸：200x250x100mm

重量：4.5kg