品牌：SBR
參數(shù)：
類型：W型紫外光清洗燈管 型號(hào)：SUV110w 特殊照明：紫外線光
管徑（D）：17.5 管莊（V）：130 ±5 電流（MA）：800
功率（W）：95 弧長：（mm）270
一、光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍
光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣泛，目前在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
1.在LCD、OLED生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強(qiáng)基體表面的粘合力；
2.印制電路板生產(chǎn)中，對(duì)銅底板，印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì)，在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強(qiáng)度。特別是高精度印制電路板，當(dāng)線距達(dá)到亞微米級(jí)時(shí)，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
3.大規(guī)模集成電路的密度越來越高，晶格的微細(xì)化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對(duì)芯片表面不會(huì)造成損傷。
4.在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。
5.在光盤的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備，可以提高光盤的質(zhì)量。
6.磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度，光清洗后效果更好。
7.石英晶體振蕩器生產(chǎn)中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發(fā)沉積前，進(jìn)行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。
8.在IC卡表面插裝ROM前，經(jīng)過光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。
9彩.色濾光片生產(chǎn)中，光清洗后能洗凈表面的有機(jī)污染物。
10.敷銅箔層壓板生產(chǎn)中，經(jīng)過光照改質(zhì)，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層，產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高。
11.光學(xué)玻璃經(jīng)過紫外光清洗后，鍍膜質(zhì)量更好。
12.樹脂透鏡光照后，能加強(qiáng)與防反射板的粘貼性。
13.對(duì)清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環(huán)氧樹脂、焊劑，以及帶有氧化膜的金屬表面處理，去除導(dǎo)電聚酰亞胺粘合劑上的有機(jī)污染物，光清洗是十分有效的方法。
二、紫外光表面清洗和改質(zhì)的工作原理
低壓紫外汞燈發(fā)射的雙波段短波紫外光照射到試件表面后，與有機(jī)污染物發(fā)生光敏氧化作用,不僅能去除污染物而且能改善表面的性能，從而提高物體表面的浸潤性和粘合強(qiáng)度，或者使材料表面得到穩(wěn)定的表面性能。根據(jù)不同需要，既可以對(duì)物體進(jìn)行紫外光表面清洗，也可以進(jìn)行紫外光表面改質(zhì)（或叫表面改善），紫外光表面清洗和改質(zhì)的機(jī)理有相同點(diǎn)，但也有區(qū)別。
1.紫外光清洗工作原理
VUV低壓紫外汞燈能同時(shí)發(fā)射波長254nm和185nm的紫外光，這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時(shí)，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個(gè)光敏氧化反應(yīng)過程是連續(xù)進(jìn)行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會(huì)不斷的生成和分解，活性氧原子就會(huì)不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。
2 .紫外光改質(zhì)工作原理
低壓紫外汞燈發(fā)射的185nm和254nm波長的紫外光除有清洗去除物體表面的有機(jī)污染物的功能外，而且還能夠進(jìn)行表面改質(zhì)。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開的同時(shí)拉出H原子和C原子，與空氣中的氧氣分解出來的活性氧（O）生成極性很強(qiáng)的原子團(tuán)（OH，CHO，COOH）即羥基等活性基，同時(shí)材料表面有機(jī)污染物的清洗，活化的基體表面具有良好的粘合力和鍵合特性，這些羥基和涂料、粘合劑、電鍍材料相結(jié)合，形成新的化學(xué)鍵，從而使材料表面得到通常情況下得不到的很強(qiáng)的粘結(jié)強(qiáng)度，或者使材料得到穩(wěn)定的表面性能。
三、紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)的性
1.光清洗技術(shù)是隨著當(dāng)代光電子信息技術(shù)發(fā)展起來的，光電子產(chǎn)品的高性能、微型化要求表面潔凈度越來越高，常規(guī)的清洗方法（如水洗、化學(xué)溶液洗、超聲波清洗等）已不能滿足要求，UV光清洗能夠達(dá)到常規(guī)的清洗方法難以達(dá)到的高清潔度，而且不存在三廢處理問題，有利于環(huán)境保護(hù)。
2.光清洗是在常溫、常壓的環(huán)境中進(jìn)行的，是一種非接觸式的干法清洗技術(shù)。光清洗時(shí)被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，因?yàn)橛袡C(jī)物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走，不可能重返被清洗的表面，不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。
3.一般情況下，光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。
4.光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的性。
5.世界上工業(yè)化國家已經(jīng)開始將光清洗技術(shù)由光電產(chǎn)品向金屬、光學(xué)、塑料、橡膠等相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)過程發(fā)展，光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣闊，具有很強(qiáng)的技術(shù)生命力。
臭氧殺菌燈就是利用低壓水銀燈管中產(chǎn)生的185nm波長的紫外線輻射激發(fā)使雙原子氧氣分解形成臭氧的機(jī)理來產(chǎn)生臭氧的。臭氧極易分解，很不穩(wěn)定，具有強(qiáng)氧化性，有四大功用：氧化、滅菌、脫色、除味。所以臭氧常用于水的消毒和空氣的臭氧化，凈化空氣，漂白飲用水，殺菌消毒，迅速而的消除空氣中、水中的各種異味。在化學(xué)工業(yè)中用作強(qiáng)氧化劑，處理工業(yè)廢物和作為漂白劑。在常溫下可使許多有機(jī)色素脫色，很容易氧化有機(jī)不飽和化合物，漂白物體表面的臟污及染劑的顏色，并可殺菌及分解雜質(zhì)。減少水源污染，不會(huì)有化學(xué)洗滌劑殘留。此外，臭氧還可以氧化、分解水中的污染物，對(duì)除嗅味、脫色、殺菌、去除酚、氰、鐵、錳和降低COD、BOD等都具有顯著的效果。
紫外光表面清洗技術(shù)在國際上是隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而提出來的。七十年代中期美事電子技術(shù)和器件實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是，美國在較長的時(shí)間里紫外光表面清洗技術(shù)主要在軍事領(lǐng)域中進(jìn)行研究性應(yīng)用。直到九十年代初，日本和美國先后將UV光清洗機(jī)應(yīng)用于民用光電子產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過程，并開始向我國個(gè)別外資LCD企業(yè)在要求技術(shù)保密的情況下提供UV光清洗機(jī)。隨后，日本在發(fā)展紫外光表面清洗技術(shù)的同時(shí)，紫外光表面改質(zhì)技術(shù)也得到了發(fā)展。在二十世紀(jì)末，日本等工業(yè)國家紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)由信息產(chǎn)業(yè)逐步擴(kuò)展到金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)過程。二十世紀(jì)九十年代后期，我國的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)以驚人的速度飛速發(fā)展，特別是平板顯示技術(shù)的高速發(fā)展，LCD顯示屏由TN級(jí)向STN和TFT不斷提升，新型的OLED顯示產(chǎn)品也開始進(jìn)入市場。由此，對(duì)制備工藝過程表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán)格，紫外光表面清洗技術(shù)的性已經(jīng)得到廣泛認(rèn)可，UV光清洗機(jī)的需求量正在不斷增長。
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