紫外線光清洗燈參數(shù)：
品牌：SBR
類(lèi)型：U型紫外光清洗燈管 型號(hào)：SUV40U 特殊照明：紫外線光
管徑（D）：17.5 管莊（V）：95±5 電流（MA）：450
功率（W）：40 弧長(zhǎng)：（mm）200 安裝長(zhǎng)度（mm）：275
一、紫外光表面清洗和改質(zhì)的工作原理
低壓紫外汞燈發(fā)射的雙波段短波紫外光照射到試件表面后，與有機(jī)污染物發(fā)生光敏氧化作用,不僅能去除污染物而且能改善表面的性能，從而提高物體表面的浸潤(rùn)性和粘合強(qiáng)度，或者使材料表面得到穩(wěn)定的表面性能。根據(jù)不同需要，既可以對(duì)物體進(jìn)行紫外光表面清洗，也可以進(jìn)行紫外光表面改質(zhì)（或叫表面改善），紫外光表面清洗和改質(zhì)的機(jī)理有相同點(diǎn)，但也有區(qū)別。
1.1 紫外光清洗工作原理
VUV低壓紫外汞燈能同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng)254nm和185nm的紫外光，這兩種波長(zhǎng)的光子能量可以直接打開(kāi)和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時(shí)，185nm波長(zhǎng)紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個(gè)光敏氧化反應(yīng)過(guò)程是連續(xù)進(jìn)行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會(huì)不斷的生成和分解，活性氧原子就會(huì)不斷的生成，而且越來(lái)越多，由于活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。
1.2 紫外光改質(zhì)工作原理
低壓紫外汞燈發(fā)射的185nm和254nm波長(zhǎng)的紫外光除有清洗去除物體表面的有機(jī)污染物的功能外，而且還能夠進(jìn)行表面改質(zhì)。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開(kāi)的同時(shí)拉出H原子和C原子，與空氣中的氧氣分解出來(lái)的活性氧（O）生成極性很強(qiáng)的原子團(tuán)（OH，CHO，COOH）即羥基等活性基，同時(shí)材料表面有機(jī)污染物的清洗，活化的基體表面具有良好的粘合力和鍵合特性，這些羥基和涂料、粘合劑、電鍍材料相結(jié)合，形成新的化學(xué)鍵，從而使材料表面得到通常情況下得不到的很強(qiáng)的粘結(jié)強(qiáng)度，或者使材料得到穩(wěn)定的表面性能。
二、紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)的性
2.1光清洗技術(shù)是隨著當(dāng)代光電子信息技術(shù)發(fā)展起來(lái)的，光電子產(chǎn)品的高性能、微型化要求表面潔凈度越來(lái)越高，常規(guī)的清洗方法（如水洗、化學(xué)溶液洗、超聲波清洗等）已不能滿足要求，UV光清洗能夠達(dá)到常規(guī)的清洗方法難以達(dá)到的高清潔度，而且不存在三廢處理問(wèn)題，有利于環(huán)境保護(hù)。
2.2光清洗是在常溫、常壓的環(huán)境中進(jìn)行的，是一種非接觸式的干法清洗技術(shù)。光清洗時(shí)被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，因?yàn)橛袡C(jī)物經(jīng)過(guò)紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走，不可能重返被清洗的表面，不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。
2.3一般情況下，光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。
2.4光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的性。
2.5世界上工業(yè)化國(guó)家已經(jīng)開(kāi)始將光清洗技術(shù)由光電產(chǎn)品向金屬、光學(xué)、塑料、橡膠等相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程發(fā)展，光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣闊，具有很強(qiáng)的技術(shù)生命力。
三、光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍
光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣泛，目前在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國(guó)工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
3.1在LCD、OLED生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過(guò)光清洗，可以極大的提高基體表面潤(rùn)濕性，增強(qiáng)基體表面的粘合力；
3.2印制電路板生產(chǎn)中，對(duì)銅底板，印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì)，在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強(qiáng)度。特別是高精度印制電路板，當(dāng)線距達(dá)到亞微米級(jí)時(shí)，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
3.3大規(guī)模集成電路的密度越來(lái)越高，晶格的微細(xì)化越來(lái)越密，要求表面的潔凈度越來(lái)越高，光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對(duì)芯片表面不會(huì)造成損傷。
3.4在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。
3.5在光盤(pán)的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備，可以提高光盤(pán)的質(zhì)量。
3.6磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度，光清洗后效果更好。
3.7石英晶體振蕩器生產(chǎn)中，除去晶體檢測(cè)后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發(fā)沉積前，進(jìn)行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。
3.8在IC卡表面插裝ROM前，經(jīng)過(guò)光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。
3.9彩色濾光片生產(chǎn)中，光清洗后能洗凈表面的有機(jī)污染物。
3.10敷銅箔層壓板生產(chǎn)中，經(jīng)過(guò)光照改質(zhì)，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層，產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高。
3.11光學(xué)玻璃經(jīng)過(guò)紫外光清洗后，鍍膜質(zhì)量更好。
3.12樹(shù)脂透鏡光照后，能加強(qiáng)與防反射板的粘貼性。
3.13對(duì)清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環(huán)氧樹(shù)脂、焊劑，以及帶有氧化膜的金屬表面處理，去除導(dǎo)電聚酰亞胺粘合劑上的有機(jī)污染物，光清洗是十分有效的方法。
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