制藥網(wǎng)
詳細(xì)介紹
強(qiáng)磁場(chǎng)低溫近場(chǎng)掃描顯微系統(tǒng)
型號(hào)：attoSNOM-Ⅲ
廠家：德國(guó)Attocube Systems AG公司技術(shù)指標(biāo)：
1. 配有兩個(gè)高精度定位的探針臺(tái)：
分別用于SNOM探針和額外光纖定位與移動(dòng)；
2.工作溫度：1.8K-300K；
3. 磁場(chǎng)強(qiáng)度：7Tesla；
4.液氦消耗速率：0.25 l/hr；
5.溫度穩(wěn)定性：<0.05 K；
6.成像模式：形貌成像、反射光信號(hào)成像、投射光信號(hào)成像；
7.反饋調(diào)制方式：振幅調(diào)制、相位調(diào)制、頻率調(diào)制等；
8.樣品粗選區(qū)范圍：5×5×5mm3；
9.粗位移步長(zhǎng)：300K時(shí)為0.05-3μm；4K時(shí)為10-500nm
10.掃描范圍：300K時(shí)為40×40μm2；4K時(shí)為30×30μm2
11.典型分辨率：<200nm（取決于aperture的配置）
12. Z方向噪音：<50 pm/√Hz；Z方向分辨率：0.12 pm（掃描模式）
13.將來可進(jìn)行功能拓展，選件包括：共聚焦顯微鏡、原子力顯微鏡
14.將來可進(jìn)行工作溫度的拓展：300mK或更低
主要功能及應(yīng)用范圍：
AttoSNOM-Ⅲ系統(tǒng)是上一臺(tái)能在低溫與強(qiáng)磁場(chǎng)環(huán)境中，進(jìn)行近場(chǎng)光學(xué)研究的設(shè)備，該系統(tǒng)適用于對(duì)各種材料的近場(chǎng)光學(xué)性質(zhì)測(cè)量，其研究范圍包括了物理、材料、化學(xué)、生物等科學(xué)。所能測(cè)量的材料有金屬、半導(dǎo)體、磁性材料、有機(jī)材料等等，材料的形式可以是薄膜、塊材、單晶和納米材料等等。
AttoSNOM-Ⅲ系統(tǒng)是上一臺(tái)能在低溫與強(qiáng)磁場(chǎng)環(huán)境中，進(jìn)行近場(chǎng)光學(xué)研究的設(shè)備，該系統(tǒng)適用于對(duì)各種材料的近場(chǎng)光學(xué)性質(zhì)測(cè)量，其研究范圍包括了物理、材料、化學(xué)、生物等科學(xué)。所能測(cè)量的材料有金屬、半導(dǎo)體、磁性材料、有機(jī)材料等等，材料的形式可以是薄膜、塊材、單晶和納米材料等等。
制藥網(wǎng)