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詳細介紹
晶元半導體臺階測高顯微鏡介紹 偏光觀察 微分干涉對比觀察 暗視場觀察 亮視場觀察 新功能增強Z軸測量精度 對焦 前端對焦 后端對焦 規(guī)格 技術參數(shù) 型號 VMM-8Ⅰ型 VMM-8Ⅱ型 VMM-8 Ⅲ型 VMM-8 VMM-12Ⅰ型 VMM-12Ⅱ型 VMM-12Ⅲ型 VMM-12 鏡筒 1×光學管徑，雙目目鏡，帶有CCD1/2靶面接口 觀察圖像 正像 觀測方法 輔助對焦系統(tǒng) - - 頭部或照明器FA系統(tǒng) 頭部或照明器FA系統(tǒng) - - 頭部或照明器FA系統(tǒng) 頭部或照明器FA系統(tǒng) 微分干涉對比 可選微分觀測對比 目鏡 10X(視場直徑：25mm)，可選十字分劃板，可選：視場直徑：22mm 物鏡(100x選配) 95mm 2x, 60mm 5x, 95mm 2x, 60mm 95mm 2x, 60mm 5x, 95mm 2x, 60mm 照明裝置 反射照明 內置孔徑光闌，LED光源，無極亮度調節(jié)，可選鹵素照明 透射照明 白色LED照明，無極亮度調節(jié) 工作臺 XY測量范圍 200*100 200*100 200*100 200*100 300*200 300*200 300*200 300*200 快速釋放裝置 X軸和Y軸（標配） 調零開關 X軸和Y軸（標配） 數(shù)顯計器 顯示軸 2軸或3軸 分辯率 0.0005mm（可選0.00002mm） VMM-8-Ⅰ型主圖 VMM-8-Ⅱ型主圖 VMM-8-Ⅲ型FA主圖 VMM-8-Ⅳ型FA主圖 VMM-12-Ⅰ型主圖-95mm VMM-12-Ⅱ型主圖-60mm VMM-12-Ⅲ型FA主圖-95mm VMM-12-Ⅳ型FA主圖-60mm 介紹 平場復消色差M PLAN APO L 數(shù)值孔徑N.A. 工作距離W.D. 焦距f 景深D.F. 分辨率R 視場 目鏡(WF10/24) 1/2"CCD攝像頭 2X 0.055 34.6 100 91μ 5μ Φ12 2.4x3.2 5X 0.14 45 40 14μ 2μ Φ4.8 0.96x1.28 10X 0.28 34 20 3.5μ 1μ Φ2.4 0.48x0.64 20X 0.29 30.8 10 3.5μ 1μ Φ1.2 0.24x0.32 50X 0.42 20.5 4 1.6μ 0.7μ Φ0.45 0.10x0.13 100X 0.55 12.5 2 0.9μ 0.5μ Φ0.24 0.05x0.06 介紹 名稱 物鏡 目鏡(WF10/25) 數(shù)值孔徑N.A. 有效工作距離W.D.(mm) 焦距f′(mm) 分辨率R(μm) 物理焦深±Δp(μm) 物方視場(mm) 焦點深度±Δ(μm) 5X 0.15 11.6 40 2.1 16.3 Φ5 38.3 10X 0.3 6.3 20 0.9 3.1 Φ2.5 7.8 20X 0.4 10.3 10 0.69 1.8 Φ1.25 3.5 50X 0.8 2 4 0.34 0.4 Φ0.5 0.8 100X 0.80 1.96 2 0.34 0.2 Φ0.25 0.6 介紹 名稱 物鏡 目鏡(WF10/25) 數(shù)值孔徑N.A. 有效工作距離W.D.(mm) 焦距f′(mm) 分辨率R(μm) 物理焦深±Δp(μm) 物方視場(mm) 焦點深度±Δ(μm) 5X 0.13 11.6 40 2.1 16.3 Φ5 38.3 10X 0.3 6.4 20 0.9 3.5 Φ2.5 7.8 20X 0.4 11.1 10 0.7 1.6 Φ1.25 3.5 50X 0.55 8.2 4 0.5 10.9 Φ0.5 1.4 100X 0.80 2 2 0.4 0.4 Φ0.25 0.7 微分干涉介紹
VMM測量顯微鏡系列是觀察、測量和處理系統(tǒng)化的顯微鏡陣容。
特點
● 視場寬闊，可得清晰無閃爍正像
● 高精度測量，同時具有大測量范圍和高精度，適用于各種測量
● 可選用高NA物鏡，滿足長工作距離的測量要求
● 照明裝置（反射/透射）可選用高亮度LED的照明或鹵素照明
● 利用可變孔徑光闌進行無衍射觀察測量
● 各類尺寸的標準工作臺
● 快速釋放裝置便于測量工件大或測量工件數(shù)量多的快速移動工作臺
● 高位目鏡觀察
● 便捷CCD圖像成像，可選配多種CCD數(shù)碼相機
觀察成像
觀察過濾后只有一個方向振動的光。適于觀察具有特殊光學特性的材料，如礦石和液晶。
在檢測金屬、液晶和半導體表面的微小劃痕和階差時很有效。
擋住直射到物體上的光，只觀察散射光，通過高對比度能觀察到在亮視場看不到的劃痕和粉末。
最普通的觀察方式，直接觀察從工件表面反射的光。
● 輔助對焦（FA）
新近研發(fā)的分光棱鏡輔助對焦（FA）提供更銳利的圖案，可在Z軸測量期間提供精確對焦。由于不同物鏡焦深差異導致的測量
● 無限遠系統(tǒng)，管鏡200mm
● 傾斜角度30°，瞳孔距離55-75mm，正像
● 高眼點，大視場WF10/22
● 鼻輪螺紋M26X0.706
● Z軸的長度180mm，微動精度0.002mm，測量精度（at20℃），XY-軸的（2.5+0.02L）um，L=測量長度（mm）在沒有放物體分辨率為0.001mm
● 12V50W反射鹵素燈
● 3W高亮度LED光源
● 可配置輔助調焦裝置（FA）
Ⅳ型
Ⅳ型
5x,10x,
20x,50x
10x,20x,
50x
5x,10x,
20x,50x
5x,
10x,20x,
50x
5x,10x,
20x,50x
10x,20x,
50x
5x,10x,
20x,50x
5x,
10x,20x,
50x
95MM金相長工作距離明場物鏡。
特點
● 可見光成像
● 無限遠光學系統(tǒng)，管徑焦距200mm
● 物鏡螺紋M26 x 0.706
技術參數(shù)
60MM金相平場半復消色差物鏡。
特點
● 可見光成像
● 物鏡螺紋M26 x 0.706
技術參數(shù)
45MM金相平場消色差明場物鏡。
特點
● 可見光成像
● 無限遠光學系統(tǒng)，管徑200mm
● 物鏡螺紋M20.32
技術參數(shù)
微分干涉DIC在正交偏光的基礎上，插入DIC棱鏡，即可進行DIC微分干涉相襯觀察。使用DIC技術，可以使物鏡表面微小的高低差產生明顯的浮雕效果，極大的提高圖像的對比度。
5X、10X、20X專為DIC設計，使得整個視場的干涉色一致，微分干涉效果非常出色，高倍物鏡DIC效果也較好。
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