HORIBA 科學(xué)儀器事業(yè)部

【儀器推薦】橢圓偏振光譜儀—— UVISEL PLUS

時(shí)間:2022-11-4 閱讀:106
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  產(chǎn)品名稱:橢圓偏振光譜儀
 
  產(chǎn)地:法國(guó)
 
  型號(hào):UVISEL PLUS
 
  典型用戶:NASA 戈達(dá)德太空飛行中心
 
  01  儀器用途及應(yīng)用范圍:
 
  UVISEL 是20 多年技術(shù)積累和發(fā)展的結(jié)晶,即使在透明的基底上也能對(duì)超薄膜進(jìn)行精確的測(cè)量。作為一款高準(zhǔn)確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機(jī)型,它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù),與機(jī)械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比, 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。
 
  | 先進(jìn)功能材料
 
  • 薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
 
  • 材料/ 表面改性研究
 
  • 粗糙度、孔隙率表征
 
  • 漸變層、界面層等分析
 
  • 穿過(guò)率、反射率曲線測(cè)量
 
  | 汽車
 
  • 薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
 
  • 表面粗糙度、孔隙率表征
 
  • 漸變層、界面層分析
 
  • 透射率、反射率測(cè)量
 
  • 涂層及鍍層分析
 
  | 半導(dǎo)體材料
 
  • 硅片上SiO2 薄膜厚度監(jiān)控
 
  • 光刻膠n,k(190-2100nm)
 
  • SiN,SiO2 等膜厚測(cè)試
 
  • 第三代半導(dǎo)體外延薄膜厚度
 
  | 能源/光伏
 
  • 薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
 
  • 工藝對(duì)鍍膜的影響分析
 
  • 漸變層、界面層等分析
 
  • 膜層不均勻性成像分析
 
  • 在線監(jiān)測(cè)
 
  02  產(chǎn)品特點(diǎn)
 
   50 KHz 高頻PEM 相調(diào)制技術(shù),測(cè)量光路中無(wú)運(yùn)動(dòng)部件
 
   具備超薄膜所需的測(cè)量精度、超厚膜所需的高光譜分辨率
 
   多個(gè)實(shí)用微光斑尺寸選項(xiàng)
 
   可用于在線實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)
 
   自動(dòng)平臺(tái)樣品掃描成像、變溫臺(tái)、電化學(xué)反應(yīng)池、液體池、密封池等
 
   配置靈活,測(cè)量范圍可擴(kuò)展至190 nm~2100 nm
 
  03  相關(guān)用戶應(yīng)用推薦:
 
  • 小小的薄膜居然在太空望遠(yuǎn)鏡上這么重要?| 前沿應(yīng)用
 
  • 一鍵操作,全自動(dòng)分析——顯示面板多維度薄膜分析 | 前沿應(yīng)用
 
  • 多維度半導(dǎo)體薄膜材料分析——橢圓偏振光譜表征方案 | 光譜技術(shù)頭條
 
  04  索取樣本、聯(lián)系報(bào)價(jià)
 
  如果您想了解更多關(guān)于產(chǎn)品儀器信息、索要儀器報(bào)價(jià),歡迎掃描二維碼留言,我們的工程師將會(huì)及時(shí)與您取得聯(lián)系。
 
 

 

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