科研級(jí)暗場(chǎng)金相顯微鏡XJ-51BD適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結(jié)構(gòu)分析和研究,或用于觀察材料表面特性,如:劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)、電子學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)等觀察研究的理想儀器??偡糯蟊稊?shù):50-600X
◆產(chǎn)品特點(diǎn):
1、采用了無限遠(yuǎn)光路設(shè)計(jì)。
2、采用大視野目鏡和明暗場(chǎng)長(zhǎng)距平場(chǎng)物鏡,視場(chǎng)平坦,成像清晰。
4、配置了偏光、暗場(chǎng)裝置、可選配微分干涉裝置,拓展了功能。
5、整機(jī)采用了防霉處理,保護(hù)了鏡頭,延長(zhǎng)了儀器的使用壽命。
6、兩路光路自由切換輸出,一路用于觀察,一路連接攝像裝置。
◆典型應(yīng)用:
1、電子工業(yè)制造業(yè)對(duì)硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗(yàn)。
2、觀察材料表面的某些特性,3、分析金屬、礦相內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織。
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品概述
規(guī)格參數(shù)
一、顯微鏡參數(shù):
序號(hào) | 名稱 | 技術(shù)參數(shù) |
01 | 平場(chǎng)目鏡 | WF10X/Φ22mm |
02 | 明暗平場(chǎng)物鏡 | 無限遠(yuǎn)長(zhǎng)距PLL 5X/0.10、10X/0.25、20X/0.40、40X/0.60、60X/0.75 |
03 | 總放大倍數(shù) | 50X-600X |
04 | 觀察頭 | 雙目,鉸鏈?zhǔn)?5°傾斜 |
05 | 轉(zhuǎn)換器 | 五孔(內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位) |
06 | 粗調(diào)調(diào)焦范圍 | 粗微動(dòng)同軸調(diào)焦,帶鎖緊裝置,微動(dòng)格值:2μm |
07 | 載物臺(tái) | 機(jī)械移動(dòng)載物臺(tái),外形尺寸:242mmX200mm,移動(dòng)范圍30mmX30mm 圓形可旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)板尺寸:外徑Ф130mm,最小通光口徑小于Ф12mm |
08 | 光瞳距離 | 53-75mm |
09 | 濾色片 | 磨砂玻璃、黃、綠、藍(lán)濾色片 |
10 | 暗場(chǎng)照明 | 12V50W鹵素?zé)簦炼瓤烧{(diào)12V50W 內(nèi)置視場(chǎng)光闌、孔徑光闌 |
11 | 偏光裝置 | 拉板式起偏器,檢偏器(可選配DIC微分干涉裝置) |
12 | 儀器重量 | 凈重7.0kg 毛重8.5kg |
13 | 儀器尺寸 | 儀器尺寸18X25X33(cm) 包裝尺寸42X35X52(cm) |
二、目鏡參數(shù):
型號(hào) T ype | 放大倍率 Magnification | 視場(chǎng)直徑(mm) F.O.V | 外徑(mm) Tube diameter |
WF10X/22 | 10X | Φ22 | Φ30.0 |
三、物鏡參數(shù):
放大倍率 Magnification | 數(shù)值孔徑 N.A | 分辨率 R(μm) | 工作距離WD(mm) | 共軛距離Conjugate(mm) | 齊焦距離Parfocus(mm) | 蓋玻片厚度CoverGlass(mm) |
5X | 0.12 | 2.10 | 9.70 | ∞ | 45 | 無 |
10X | 0.25 | 1.10 | 9.30 | ∞ | 45 | 無 |
20X | 0.40 | 0.70 | 7.23 | ∞ | 45 | 無 |
40X | 0.60 | 0.55 | 3.00 | ∞ | 45 | 無 |
60X | 0.75 | 0.42 | 1.90 | ∞ | 45 | 無 |