雷達料位計

產品概述：雷達料位計適用于各種過程條件復雜的容器、儲罐、倉料等物位測量，適用于對液體、漿料、顆粒以及粉塵的物位進行接觸式連續(xù)測量，特別是應用在有粉塵、以及有揮發(fā)性物質存在的復雜環(huán)境下，且不受被測介質物理特性變化的影響。

產品測量原理：雷達天線發(fā)射極窄的微波脈沖，這個脈沖以光速在空間傳播，碰到被測介質表面，其部分能量被反射回來，被同一天線接收。發(fā)射脈沖與接收脈沖的時間間隔與天線到被測介質表面的距離成正比。由于電磁波的傳播速度，發(fā)射脈沖與接受脈沖的時間間隔很?。{秒量級）很難確認。UPR系列雷達物位計采用一種特殊的相關解調技術，可以準確識別發(fā)射脈沖與接收脈沖的時間間隔，從而進一步計算出天線到被測介質表面的距離。

產品特點：
由于采用了*的微處理器和的EchoDiscovery回波處理技術，雷達料位計可以應用于各種復雜工況。
“虛假回波學習”功能使得儀表在多個虛假回波的工況下，可正確地確認真實回波，獲得準確的測量結果。
多種過程連接方式及天線型式，使得UPR系列雷達物位計適于各種復雜工況。如：高溫、高壓及小介電常數介質的測量等。
采用脈沖工作方式，雷達物位計發(fā)射功率極低，可安裝于各種金屬、非金屬容器內，對人體及環(huán)境均無傷害。