日本電子JSM-7610FPlus 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡

的JSM-7610F的光學(xué)系統(tǒng)經(jīng)過(guò)改進(jìn)，實(shí)現(xiàn)了分辨率（15kV 0.8nm、1kV 1.0nm）的進(jìn)一步提升，以嶄新的JSM-7610FPlus形象亮相。采用半浸沒(méi)式物鏡和High Power Optics照明系統(tǒng)，能提供穩(wěn)定的高空間分辨率觀察和分析。

此外還具備利用GENTLEBEAM^TM模式進(jìn)行低加速電壓觀察、通過(guò)r-filter分選信號(hào)等滿(mǎn)足各種需求的高擴(kuò)展性。主要特點(diǎn)如下：

◇ 半浸沒(méi)式物鏡

半浸沒(méi)式物鏡在樣品周?chē)纬蓮?qiáng)磁場(chǎng)，因而可以獲得超高分辨率。

◇ High Power Optics

High Power Optics 是的電子光學(xué)系統(tǒng)，既實(shí)現(xiàn)了高倍率觀察又能進(jìn)行多種分析。

浸沒(méi)式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)梢垣@得10 倍于傳統(tǒng)肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)‵EG）的探針電流，光闌角控制鏡（ALC）在探針電流增大時(shí)也能保持小束斑，兩者組合起來(lái)能提供200 nA 以上的探針電流。強(qiáng)大的High Power Optics 系統(tǒng)，從高倍率圖像觀察到EDS分析和EBSD 解析可以一直使用高分辨率的最小物鏡光闌而不需要改換。

浸沒(méi)式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍銃   

浸沒(méi)式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍通過(guò)和低像差聚光鏡組合，可以有效地收集從電子槍內(nèi)發(fā)射的電子。

光闌角控制鏡（ACL）

光闌角控制鏡（ACL）配置在物鏡的上方，在整個(gè)探針電流范圍內(nèi)自動(dòng)優(yōu)化物鏡光闌的角度。因此，即使照射樣品的探針電流很大，與傳統(tǒng)方式相比，也能獲得很小的電子束斑。

即使探針電流很大，束斑直徑也很小

長(zhǎng)時(shí)間分析時(shí)穩(wěn)定度也很高

◇ 柔和電子束（GB:GENTLEBEAM^TM）模式

GB 模式的效果

GB 模式在低電壓下提高分辨率

左圖一般模式，右圖GB模式

增強(qiáng)了的低加速電壓下的分辨率

◇ r-過(guò)濾器

◇ LABE檢測(cè)器（選配件）

利用LABE 檢測(cè)器獲取低角度背散射電子像

◇ 擴(kuò)展性

能譜儀（EDS）

波譜儀（WDS）

陰極熒光系統(tǒng)（CL）