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制氮機(jī)系列

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更新時(shí)間:2022-10-04 13:15:47瀏覽次數(shù):423

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

制氮機(jī)系列將容器中充滿碳分子篩(CMS)的空氣進(jìn)行氮和氧分離,由于碳分子篩(CMS)是一個(gè)多孔的碳吸附介質(zhì)。氣體分子在壓力下被推進(jìn)這些孔隙。較小的氧氣分子被吸收到孔中,留下較大的氮?dú)夥肿油ㄟ^(guò),從而形成氮?dú)?。系統(tǒng)再生時(shí),將氧氣分子從孔隙中釋放到大氣,以此循環(huán)往復(fù)。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹

在化學(xué)制造、電子產(chǎn)品、激光切割、食品和飲料等眾多工業(yè)過(guò)程中,持續(xù)可靠的高純度氮?dú)夤?yīng)至關(guān)重要。相對(duì)于目前工業(yè)上可用的鋼瓶或氮?dú)鈨?chǔ)罐,現(xiàn)場(chǎng)生產(chǎn)的氮?dú)馓峁┝藦V泛的優(yōu)勢(shì),節(jié)省成本的同時(shí)也帶來(lái)了時(shí)間的保障。AFE高純度制氮機(jī)為您提供的解決方案,為您的現(xiàn)場(chǎng)氮?dú)庑枨髱?lái)更低的生產(chǎn)成本,限度的方便和可靠性。

詳細(xì)說(shuō)明

制氮機(jī)的優(yōu)勢(shì)

自發(fā)系統(tǒng)。獨(dú)立的氮?dú)鈦?lái)源
無(wú)時(shí)間限制,隨時(shí)可用
物流成本低,無(wú)租金和運(yùn)輸費(fèi)用
氮?dú)饧兌葟?5%到99.99%
無(wú)蒸發(fā)損失,
無(wú)需經(jīng)常處理高壓氣瓶,即使持續(xù)操作也無(wú)安全隱患
可多接頭使用氮?dú)?。?jiǎn)單的氮?dú)夤芫W(wǎng),適用范圍廣
方便簡(jiǎn)單設(shè)置,結(jié)合現(xiàn)有的壓縮空氣系統(tǒng)
單位生產(chǎn)成本低
                   

工作原理

制氮機(jī)由兩個(gè)充滿碳分子篩(CMS)的吸附容器組成。CMS優(yōu)先吸附超過(guò)N2的O2,使凈化后的N2在壓力下作為產(chǎn)物氣體通過(guò)。其中一個(gè)塔處于吸附階段,另一個(gè)塔通過(guò)減壓再生,分子篩將吸附的氣體釋放到大氣中,然后循環(huán)往復(fù)。
通過(guò)與CMS供應(yīng)商的持續(xù)研究,PSA系統(tǒng)利用了當(dāng)今市場(chǎng)上的CMS。這導(dǎo)致空氣與氮?dú)獾男枨蟊确浅5?,從而降低了與主空氣壓縮機(jī)相關(guān)的總成本。隨著PSA工藝順序的一系列開(kāi)啟/關(guān)閉閥門,選擇正確的閥門來(lái)處理每年數(shù)十萬(wàn)次的循環(huán)。這種PSA系統(tǒng)采用額定數(shù)百萬(wàn)次循環(huán)的閥門,以確保可靠性。

產(chǎn)品規(guī)格

型號(hào) 流量體積 外型尺寸(mm)
95% 97% 99% 99.50% 99.90% 99.99% H W D
NP-001 5 4.21 3.27 2.2 1.51 0.82 1420 980 860
NP-002 10 8.42 6.54 4.4 3.02 1.63 2020 980 895
NP-003 15 13.14 10.2 6.86 4.71 2.55 2025 1035 895
NP-004 20 16.43 12.75 8.58 5.88 3.19 2380 1035 920
NP-005 30 25.07 19.45 13.09 8.98 4.86 2245 1145 965
NP-006 40 33.47 25.98 17.48 11.99 6.49 2120 1265 980
NP-007 50 41.83 32.46 21.85 14.98 8.12 2250 1315 1000
NP-008 65 53.31 41.38 27.85 19.1 10.34 2350 1490 1010
NP-009 80 66.45 51.57 34.71 23.8 12.89 2400 1710 1070
NP-010 100 83.48 64.79 43.61 29.91 16.2 2490 1710 1080
NP-011 125 102.60 79.62 53.59 36.75 19.91 2430 1945 1090
NP-012 150 122.20 94.87 63.85 43.79 23.72 2680 1945 1100
* 入口條件為7bar和35℃,預(yù)純化,+5℃壓力露點(diǎn),可應(yīng)要求提供具有較高流速和其他N2純度水平的系統(tǒng)


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