科晶五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

科晶五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

型號：VTC-5RF

產(chǎn)品概述：

VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計(jì)劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。

主要特點(diǎn)：

• 多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請致電我公司銷售部。
• 根據(jù)所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。
• 一個(gè)旋轉(zhuǎn)開關(guān)可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環(huán)境中自動(dòng)切換，不影響真空度。
• 可以安裝五種不同材料的靶材，每個(gè)靶頭可單獨(dú)設(shè)置濺射時(shí)間功率等參數(shù)，用于生長不同成分的薄膜。
• 可選購多個(gè)射頻電源，同一時(shí)間濺射多個(gè)靶材。
• 可選配設(shè)備控制軟件，用電腦控制濺射的所有參數(shù)。

濺射腔體：

• 真空腔體采用304不銹鋼制作
• 腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (105 L)
• 鉸鏈?zhǔn)角婚T，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口

濺射頭&樣品臺：

• 5個(gè)1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層
• 濺射腔體內(nèi)安裝有電動(dòng)擋板
• 濺射距離:濺射距離可調(diào)
• 濺射角度:濺射角度可調(diào)
• 實(shí)驗(yàn)時(shí)，需要將靶材和靶材的銅墊片用導(dǎo)電銀漿粘合粘合，（可在本公司購買導(dǎo)電銀漿）
• 可以單獨(dú)訂購RF連接線作為備用
• 設(shè)備需要一臺水冷機(jī)，用于靶頭冷卻

樣品臺：

• 直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個(gè)樣品接收濺射成膜。
• 樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉(zhuǎn)，可制作16種不同組分的薄膜
• 樣品臺可以加熱，zui高溫度可達(dá)600℃（根據(jù)配置不同可能會有變動(dòng)，具體請咨詢銷售部）

真空系統(tǒng)：

• 安裝有KF40真空接口
• 真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（參考值，具體請點(diǎn)擊）
• 可在本公司選購各種真空泵

進(jìn)氣：

• 設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶
• 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流

靶材：

• 所要求靶材尺寸：直徑為25mm,zui大厚度3mm
• 可在本公司選購各種靶材

科晶五靶頭等離子射頻磁控濺射儀

型號：VTC-5RF

薄膜測厚儀（可選）：可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

凈重：60Kg（不包括泵)

質(zhì)量認(rèn)證：CE認(rèn)證

使用提示：

• 此設(shè)備為DIY設(shè)備，參數(shù)變化較大購買前請務(wù)必電話仔細(xì)溝通
• 為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
• 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
• 要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請?jiān)跒R射前清潔基材表面
• 超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮?dú)飧稍铮?）真空烘箱除去水分。
• 等離子清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。
• 制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

警告：

• 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動(dòng)機(jī)體。
• 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標(biāo)配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
• 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶