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頭孢、阿莫西林混懸液膠體磨在北京、濟南、濰坊、成都現(xiàn)場驗收

時間:2017-4-5閱讀:979
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一八零 一八五四 二七九五(你懂得)


液體藥劑中的藥物可以是固體、液體或氣體,在一定條件下分別以分子或離子、膠粒、顆粒、液滴狀態(tài)分散于液體分散媒(溶劑,下同)中組成分散體系。如分散相以分子或離子狀態(tài)分散于液體分散媒中者稱為溶液,其中溶質(zhì)分子量小的稱為低分子溶液;溶質(zhì)分子量大的(如蛋白質(zhì)類)則稱為高分子溶液。膠體溶液除了高分子溶液以外,還包括溶膠,它由多分子聚集體作為分散相的質(zhì)點,分散在液體分散媒中。如果以固體顆?;蛞旱畏稚⒂诜稚⒚街校w?;蛞旱闻c分散媒之間有相界面,前者稱為混懸液,后者稱為乳濁液。
 

若要制得沉降緩慢的混懸液,應(yīng)減少顆粒的大小,增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。實驗工作中主要應(yīng)用前兩種手段增加穩(wěn)定性。增稠劑可用糖漿、天然膠類、以及合成的可溶性纖維素類。

         

根據(jù)國家醫(yī)藥行業(yè)規(guī)定,一般混懸液的粒徑要求在15微米以下,目前大多數(shù)企業(yè)采用膠體磨對物料進行細化,上海IKN高剪切膠體磨zui高轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是普通膠體磨的4-5倍,細化能力更強,效率更快。

膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,CM在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達到更好的研磨分散的效果。CM2000整機采用zuijia幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,的表面處理和材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
 

           
高剪切膠體磨運行原理:

高剪切膠體磨在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎 區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下,將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎。精磨區(qū)分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細,同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。

 

IKN膠體磨結(jié)構(gòu):三道磨碎區(qū):一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。

我們的磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。


CM2000系列混懸液膠體磨的特點:

1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

2、齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

        


CM2000系列醫(yī)藥混懸液膠體磨設(shè)備選型表

型號

流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

馬達功率

KW

出/入口連接

CM2000/4

700

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CM2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CM2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50/DN50

CM2000/20

20,000

2,850

23

37

DN80/DN65

CM2000/30

40,000

1,420

23

55

DN150/DN125

CM2000/50

80,000

1,100

23

110

DN200/DN150

注:流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

IKN的CM2000系列和國內(nèi)設(shè)備相比

 

 

 

 

 

三級結(jié)構(gòu)

磨頭結(jié)構(gòu)

轉(zhuǎn)速

zui大線速度

模塊頭

密封類型

產(chǎn)品效果

國內(nèi)設(shè)備

溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣

 

溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下

目前是不通過變頻器來調(diào)節(jié),若通過變頻調(diào)節(jié),他們的軸承不能承受高速運轉(zhuǎn)。一般在3000RPM(這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。)

大約在10-15M/S

 

只有一種模塊頭

單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀

 

粒徑細度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差

 

 

IKN

上海依肯

溝槽是曲線,上下深度不一,上深下淺

斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大

可以通過變頻調(diào)速,轉(zhuǎn)速可達7890/13789RPM ,通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍,研磨的力度也是他們的3-4倍,這樣研磨的細度更小)

23-40 M/S

可以選擇六種不同的模塊頭,實現(xiàn)多種功能,如三級乳化模塊,超高速模塊,CM膠體模塊,CMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊

 

雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時不停運轉(zhuǎn)

 

可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工

醫(yī)藥混懸液膠體磨,混懸液膠體磨,醫(yī)藥混懸液研磨機,高剪切膠體磨,醫(yī)藥高速膠體磨,衛(wèi)生膠體磨,納米膠體磨,超細膠體磨

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