詳細(xì)介紹
專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩(wěn)定觀察的*半導(dǎo)體器件,高分辨成像所設(shè)計(jì)。
特點(diǎn)
1.新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。
0.4 nm / 30 kV (SE)
1.2 nm / 1 kV (SE)
0.34 nm / 30 kV (STEM)
2.用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來實(shí)現(xiàn)高效率截面觀察。
3.采用全新設(shè)計(jì)的Super E x B能量過濾技術(shù),高效,靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。