原位多用變溫光譜池

原位多用變溫光譜池（DM-LQ-H150-XAFS）是一款測試液體光譜學的原位裝置。主體配備加熱功能（無加壓功能），能在溶劑沸點以下溫度正常工作。配備X射線窗口和可見光窗口，為液體的X射線光譜學和可見光譜學研究提供了可能。

主要特點

1. 該裝置能夠實現(xiàn)液體在加熱過程中的原位同步輻射X射線吸收譜測試（透射模式）；

2. 裝置溫度使用范圍：室溫-120℃（使用溫度需要在實測液體的沸點溫度以下操作），溫度控制精度±1℃；

3. 可進行液體樣品的同步輻射X射線吸收譜測試（透射模式）；

4. 液體的樣品厚度可根據(jù)實驗要求來進行調節(jié)；

5. 裝置整體采用氟膠圈進行，保證裝置整體密封性良好；

6. 裝置主要包含加熱腔體一個、溫度控制器一臺、兩個X射線光學窗口、兩個可見光窗口；