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原位高溫XAFS反應釜

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更新時間:2023-08-18 12:43:41瀏覽次數(shù):160

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產(chǎn)品簡介

原位高溫XAFS反應釜

詳細介紹

原位高溫XAFS反應釜(DMHK-TXAS)是一款高溫原位X射線吸收譜測試反應釜,該反應釜是基于同步輻射X射線吸收譜方法的原位在線檢測裝置,能夠?qū)崿F(xiàn)在高溫高壓的即時反應條件下,不需要破壞其本征樣品環(huán)境,即可匹配同步輻射X射線吸收譜學方法對產(chǎn)物進行原位在線的檢測,直接獲取納米晶顆粒在不同生長環(huán)節(jié)下的幾何和電子結構。

主要特點:

1. 該裝置為模擬高壓水熱反應釜的工作原理,能夠?qū)崿F(xiàn)反應釜內(nèi)膽化學反應過程中的原位透射X射線吸收光譜在線檢測功能;

2. 該裝置采用自加熱模式進行加熱,內(nèi)膽溫度設計為230℃,常用溫度為200℃,溫度控制精度為±1℃

3. 采用溫度控制器對其進行溫度控制,溫控設備配備程序控制,可連接微型計算機使用;

4. 內(nèi)部壓力承載范圍為:0-40bar;

5. 光窗材質(zhì)為高分子及高純Be材質(zhì)

6. 裝置內(nèi)部容積約為8ml,整體尺寸為:φ80*40mm(厚度方面若太厚,還可以適當減小一點)。

 

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