原位高溫衍射反應(yīng)裝置

原位高溫衍射反應(yīng)裝置（HT-XRD-1000）是一款專門為高溫條件下探測(cè)樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)的原位樣品臺(tái)，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺(tái)等多個(gè)部件及相關(guān)配件。采用環(huán)境場(chǎng)加熱方式，確保樣品處于恒溫點(diǎn)，使用溫度1000℃，常用使用溫度范圍：RT-800℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。

主要特點(diǎn)：

1. 本設(shè)備系統(tǒng)主要由主體腔室（反應(yīng)腔）、冷卻循環(huán)系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)（帶程序控制）四個(gè)主體部分組成。

2. Ø 該裝置采用環(huán)場(chǎng)加熱方式對(duì)樣品中心處進(jìn)行加熱，保證樣品處的溫度均勻；

3. Ø 溫度控制范圍：使用溫度1000℃，常用溫度RT-800℃，溫度控制精度：±1℃；

4. Ø樣品臺(tái)采用陶瓷加工而成，熱電偶采用k 型鎧裝熱電偶，置于樣品正下方；

5. Ø 裝置采用kapton 膜作為X 射線光窗，能夠承受不高于2 個(gè)大氣壓的氣壓條件和低真空環(huán)境；

6. Ø X 射線采集角度為：5<2θ<160°；

7. 配備水冷系統(tǒng)，保證主體反應(yīng)腔室的溫度不高于60℃，保證實(shí)驗(yàn)的安全；