原位高溫X射線反應(yīng)裝置

簡 介：

原位高溫X射線反應(yīng)裝置（HT-XRD/AS-1200）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計的原位樣品臺系統(tǒng)，能夠匹配同步輻射X射線衍射和X射線吸收兩類光譜表征。該裝置系統(tǒng)主要包含有高溫爐體裝置，水冷系統(tǒng)，溫度控制系統(tǒng)（程序控制），樣品臺等多個部件及相關(guān)配件。采用環(huán)境場加熱方式，確保樣品處于恒溫點，使用溫度1200℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。

主要特點

1. 該裝置系統(tǒng)主要包含有高溫爐體裝置，水冷系統(tǒng)，溫度控制系統(tǒng)（程序控制），樣品臺等多個部件及相關(guān)配件；

2. 該裝置可在上海光源進行原位XRD和XAS測試；

3. 該裝置采用環(huán)場加熱方式對樣品中心處進行加熱，保證樣品處的溫度均勻；

4. 溫度控制范圍：RT-1200℃；溫度控制精度：±1℃，配備程序控制系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)遠程電腦控制溫度；

5. 樣品臺采用陶瓷加工而成，熱電偶采用k型熱電偶，置于樣品正下方；

6. 樣品架可以夾持直徑2-15mm的固體樣品，且樣品架在1200℃的溫度下不與硅酸鹽材料（Lu2SiO5，Y2SiO5，Gd2SiO5）發(fā)生化學(xué)反應(yīng)；

7. 光能量：0.12398nm（約為10kev）角度2θ 8-55度；

8. 裝置采用BN陶瓷片和高純鈹窗作為X射線光窗，能夠承受不高于2個大氣壓的氣壓條件和低真空環(huán)境；

9. 配備水冷系統(tǒng)，保證主體反應(yīng)腔室的溫度不高于60℃，保證實驗的安全；