高溫催化原位TXAS裝置

簡介：

高溫催化原位TXAS裝置（HTC-TXAS-1000）是一款專門為研究高溫氣固相催化反應過程而設計的原位測試裝置。該裝置采用加熱爐方式對催化劑進行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準確。該原位裝置度可設置成1000℃。該裝置配備進出氣孔，能夠對裝置整體進行氣氛保護，同時受益于氣路設計，能夠保證氣體始終有效通過催化劑。因采用的透射模式進行數據采集，裝置兩側均設置了X射線窗口（此處窗口可多種選擇）。更高和更均勻的溫度體系讓用戶能夠在更多的應用場景中選擇對自己合適的反應參數來進行原位觀測，是這一原位裝置的優(yōu)勢所在。

主要特點：

1. 該原位裝置適用于高溫氣固相催化反應體系，并能夠在反應過程中在線采集同步輻射X射線吸收譜數據（透射）；

2. 該裝置加熱溫度范圍：RT-1000℃，溫度控制精度：±1℃；

3. 樣品尺寸大?。?/span>φ6-10mm，厚度可根據樣品吸收進行微調：<=2mm；

4. 該裝置配備進出氣孔，能夠對體系進行氣氛保護，并保證氣體有效通過樣品；

5. 該裝置采用透射模式采集XAFS數據，兩側X射線窗口可有多種選擇，如高純Be窗、Kapton膜等；

6. 該裝置能夠很好的匹配各同步輻射光源的X射線吸收譜線站；

7. 該裝置溫控系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)，能夠保證裝置外殼溫度不高于60℃。