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電化學(xué)原位熒光X射線吸收譜反應(yīng)池-H

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更新時(shí)間:2023-08-18 13:28:27瀏覽次數(shù):140

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產(chǎn)品簡介

電化學(xué)原位熒光X射線吸收譜反應(yīng)池-H

詳細(xì)介紹

介:

電化學(xué)原位熒光X射線吸收譜反應(yīng)池-HEC-FXAS-H)是一款為同步輻射X射線吸收譜線站專門設(shè)計(jì)的電催化反應(yīng)池,基于EC-FXAS基礎(chǔ)上改進(jìn)而來。區(qū)別于EC-FXAS,此款裝置能夠進(jìn)行裝夾離子交換膜,可將內(nèi)腔體分為兩個(gè)部分。

主要特點(diǎn):

1. 該原位裝置適用于電化學(xué)X射線吸收譜(熒光Lytle模式)原位測試;

2. 該裝置能夠匹配北京/上海同步輻射X射線吸收譜線站的Lytle盒體;

3. 工作電極無需調(diào)整位置即可對準(zhǔn)光路,放樣方便快捷,為用戶減少調(diào)整時(shí)間,節(jié)約同步輻射用光機(jī)時(shí);

4. 樣品大小尺寸可調(diào)(27mmX27mm方形),拆卸方便;

5. 主池體為H型池體設(shè)計(jì),采用PEEK材質(zhì),容積~100ml;

6. 主池體III兩部分均可通氣體,整個(gè)池體密封性良好;

7. 配有對電極和參比電極(可選鉑絲電極、氯化銀電極等多種電極);

8. 光學(xué)窗口選用Kapton膜;

9. 觀察窗口尺寸:5*12mm跑道型觀察窗口;與X射線入射光呈45度角。

號:ZL2017 2 1129719.0

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