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小型滑軌式PECVD系統(tǒng)BTF-1200C-S-SL-PECVD

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更新時間:2024-07-23 12:09:47瀏覽次數(shù):111

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產(chǎn)品簡介

主要特點微型滑軌式PECVD系統(tǒng),電源范圍寬:0-100W可調(diào);溫度范圍寬:100-1200度可調(diào);濺射區(qū)域?qū)挘赫芸烧{(diào);其精致小巧,性價比,滑軌式設(shè)計使用滑軌爐實現(xiàn)快速升溫和降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用

詳細介紹

主要特點

微型滑軌式PECVD系統(tǒng),電源范圍寬:0-100W可調(diào);溫度范圍寬:100-1200度可調(diào);濺射區(qū)域?qū)挘赫芸烧{(diào);其精致小巧,性價比,滑軌式設(shè)計使用滑軌爐實現(xiàn)快速升溫和降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)品型號:

BTF-1200C-S-SL-PECVD

實驗機理:

PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。通過反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點,工藝流程簡單。

技術(shù)參數(shù):

開啟式真空管式滑軌爐

反應(yīng)腔體尺寸:Φ25、Φ50x1200mm

加熱元件:電阻絲(Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo)

加熱區(qū)長度:230mm

恒溫區(qū)長度:100mm(±1℃)

工作溫度:1100℃

Z高溫度:1200℃

控溫方式:模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié),智能化30段可編程控制,具有超溫和斷偶報警功能

控溫精度:±1℃

升溫速率:10℃/min

爐門結(jié)構(gòu):開啟式

工作電源:AC220V /50HZ

額定功率:2.5KW

真空泵和閥門

采用KF25系列波紋管和手動擋板閥;

真空度可達10-3torr;

數(shù)顯真空測試儀可直觀的顯示數(shù)值。

質(zhì)量流量計控制氣路系統(tǒng)(可來圖訂制)

內(nèi)部裝有高精度質(zhì)量流量計可準(zhǔn)確的控制氣體流量;

氣體流量范圍可選,誤差為±1.5%;

一個氣體混氣罐的底部安裝了液體釋放閥;

不銹鋼針閥安裝在左側(cè)可手動控制混合氣體輸入。

射頻電源與匹配器

電源:單相50/60Hz 220v±10%

加熱(功率)電源:2.5KW,25A

控制柜電源空氣開關(guān):32A空氣開關(guān)

薄膜生長室溫度:室溫~ 1200℃

信號頻率13.56 MHz±0.005%

射頻功率輸出范圍:0~100W

外型尺寸:

爐體:550×380×600mm

爐體加滑軌1500x380x620mm

供氣及真空系統(tǒng):600×600×600mm

凈重:

100Kg

認證和

CE認證

號:ZL.0 (產(chǎn)品 ,防偽必究)


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