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VSF-L系列懸浮真空熔煉爐

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更新時間:2023-10-21 18:28:20瀏覽次數(shù):135

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產(chǎn)品簡介

真空感應懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中,利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化,依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產(chǎn)生密切接觸。這樣就避免了坩堝對需要熔煉材料的污染,從而能夠熔煉出高純度的金屬材料。通過精練后在水冷銅坩堝內(nèi)的液態(tài)合金也可以通過旋轉澆注入錠模中,可以得到組織致密的合金錠。真空懸浮熔煉爐適用于鈦合金、稀土材料、高熵合金、黃金等金屬的熔煉,高純度靶材的生產(chǎn)和一些精密......

詳細介紹

產(chǎn)品名稱:VSF系列懸浮真空熔煉爐
產(chǎn)品型號:VSF-300L 懸浮真空熔煉爐
                VSF-500L 懸浮真空熔煉爐
                VSF-1000L 懸浮真空熔煉爐
                VSF-2000L 懸浮真空熔煉爐






  VSF-L真空懸浮熔煉爐


產(chǎn)品描述:

真空感應懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中,利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化,依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產(chǎn)生密切接觸。這樣就避免了坩堝對需要熔煉材料的污染,從而能夠熔煉出高純度的金屬材料。通過精練后在水冷銅坩堝內(nèi)的液態(tài)合金也可以通過旋轉澆注入錠模中,可以得到組織致密的合金錠。真空懸浮熔煉爐適用于鈦合金、稀土材料、高熵合金、黃金等金屬的熔煉,高純度靶材的生產(chǎn)和一些精密鑄造。主要應用于生產(chǎn)高純金屬材料、半導體單晶材料、高熔點合金和3D打印等行業(yè)。


爐體結構:

VSF-L真空熔煉爐是一款臥式、側部開門結構、能夠在腔體內(nèi)實現(xiàn)真空澆鑄的高真空懸浮熔煉設備。該爐安裝有二次加料器,可以實現(xiàn)二次加料,有多處觀察孔,可以清晰的觀察水冷銅坩堝內(nèi)物料熔化的情況,并可選配紅外測溫儀測量熔化金屬的溫度,該爐具有過溫、斷水保護、報警、輸出電流顯示等功能。能夠在爐外旋轉電極從而讓爐內(nèi)坩堝做任意角度翻轉、而實現(xiàn)真空下澆鑄。


技術參數(shù):

1.加熱溫度:2200

2.采用電源:IGBT懸浮專用電源

3.感應線圈:懸浮爐專用線圈

4.輸入電壓:三相380V 50 HZ

5.融化速率:10~15min

6.坩堝:懸浮專用水冷銅坩堝

7.腔體真空度:<>-3Pa

8.冷卻水要求:電源≥0.2MPa 水冷銅坩堝 ≥0.35MPa


技術指標:

 

型號

VSF-300L

VSF-500L

VSF-1000L

VSF-2000L

熔煉重量(按鈦液計算)

300G

500G

1000G

2000G

電源技術參數(shù)

輸入功率

60KW

90KW

120KW

180KW

輸出功率

54KW

81KW

108KW

162KW

振蕩頻率

15-30KHZ (頻率自動跟蹤)

腔體尺寸

Dia700X800mm

Dia700X800mm

Dia750X800mm

Dia750X800mm

坩堝尺寸

Dia40X50mm

Dia50X60mm

Dia60X110mm

Dia70X120mm


 

 







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