EDI超純水處理設(shè)備 返回列表頁

EDI超純水處理設(shè)備

EDI超純水處理設(shè)備設(shè)備系統(tǒng)是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，被吸附的離子在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被除去的過程。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板多組交替排列，構(gòu)成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜)。淡室水中陽離子向負(fù)極遷移透過陽膜，被濃室中的陰膜截留；水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水，而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進(jìn)，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達(dá)到淡化，提純，濃縮或精制的目的。這一過程離子交換樹脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水 。

 超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域： 　　

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　　

電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水； 　　

黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；　　

生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液； 　　

晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；　　

集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片； 　

半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水； 　　

半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；

高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)；　　　

汽車、家電表面拋光處理。