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 電廠鍋爐大型純水設(shè)備

一、電廠鍋爐用水

控制鍋爐給水的水質(zhì)主要是為了防止鍋爐結(jié)垢 、腐蝕和防止積鹽，通常低壓鍋爐以軟化水作為補(bǔ)給水，中壓則采用脫堿、除鹽水作為補(bǔ)給水，而高壓鍋爐則必須是采用除鹽水作為補(bǔ)給水。

二、電廠鍋爐行業(yè)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：

     符合國家或行業(yè)鍋爐給水標(biāo)準(zhǔn)（GB1576-79、DL/T561-95），適合中、高壓鍋爐補(bǔ)水水質(zhì)要求。電阻率在0.5-10MΩ.cm的（超）純水。

三、典型工藝流程：

     ☆預(yù)處理----反滲透----電去離子（EDI）

備 注：具體的設(shè)備處理量、出水標(biāo)準(zhǔn)、設(shè)備材質(zhì)、尺寸及電器控制等，我公司將會提供給您詳細(xì)的方案說明。

5、高純水設(shè)備

一、 什么是高純水

  高純水是化學(xué)純度ji高的水，其中的雜質(zhì)的含量小于0.1mg/L，一般在電子、醫(yī)藥、航天或其他特殊行業(yè)工藝生產(chǎn)中，為了達(dá)到產(chǎn)品所需工藝用水，一般需要電導(dǎo)率0.055μS/cm（電阻率18.2 MΩ•cm）的理論純水，統(tǒng)稱為高純水或超純水

目前人們制成的高純水的純度已經(jīng)達(dá)到99.999999%，其中雜質(zhì)含量低于0.01mg/L，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下，電導(dǎo)率小于0. 2μs/cm。

二、高純水設(shè)備概述

  我公司高純設(shè)備主要采用RO反滲透純水設(shè)備和EDI高純水設(shè)備聯(lián)合工藝，采用穩(wěn)定性強(qiáng)的EDI模塊作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。

三、高純水設(shè)備EDI模塊工作原理

　　EDI模塊是連續(xù)電除鹽（EDI，Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization)技術(shù),是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，同時這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被除去的過程。這一過程離子交換樹脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水。又可以比較清晰地描述如下：EDI是利用陰、陽離子膜，采用對稱堆放的形式，在陰、陽離子膜中間夾著陰、陽離子樹脂，分別在直流電壓的作用下，進(jìn)行陰、陽離子交換。而同時在電壓梯度的作用下，水會發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-，這些H+和OH-對離子膜中間的陰、陽離子不斷地進(jìn)行了再生。由于EDI不停進(jìn)行交換——再生，使得純水度越來越高，所以，輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的高純水。

三、 EDI高純水設(shè)備工藝圖

  原水箱→原水泵→加藥裝置→多介質(zhì)過濾器→加藥裝置→活性碳過濾器→全自動軟化器→保安過濾器→一級高壓泵→一級反滲透系統(tǒng)→中間水箱→二級高壓泵→二級反滲透系統(tǒng)→純水箱→純水泵→TOC分解器→脫氣膜→精密過濾器→EDI裝置→純水箱→純水泵→拋光混床→膜過濾器→生產(chǎn)線用水點。

四、EDI高純水設(shè)備性能優(yōu)勢

1、可連續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水，無需因樹脂再生而停機(jī)； 　　

2、無污染物排放，既環(huán)保又省去了廢液處理的投資； 　　

3、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，節(jié)省空間，同時還具有節(jié)能優(yōu)點； 　　

4、出廠完成裝置調(diào)試，現(xiàn)場工作量小，上崗培訓(xùn)容易； 　　

5、日常保養(yǎng)，操作簡單，勞動強(qiáng)度低。 　　

6、脫鹽率大于99.9%，效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于兩級反滲透和單純的離子交換。

五、主要應(yīng)用行業(yè)

  廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實驗室,也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用高純水。

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