硅片清洗超純水設(shè)備

　　硅片是半導(dǎo)體行業(yè)的重要基材。半導(dǎo)體器件制造中的硅片必須使用超純水設(shè)備制取的超純水仔細(xì)清洗，目的是去除表面污染雜質(zhì)(包括有機(jī)物和無(wú)機(jī)物)，因?yàn)槲⒘课廴疽材軐?dǎo)致器件故障。

　　超純水開(kāi)始是美國(guó)科技界為開(kāi)發(fā)超純材料(半導(dǎo)體原始材料、納米精細(xì)陶瓷材料等)應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其他合適的超臨界精細(xì)技術(shù)生產(chǎn)的水?，F(xiàn)在超純水也廣泛用于芯片、精密儀器、電鍍涂裝、涂裝等清洗中。

　　硅片清洗對(duì)水質(zhì)要求高，電阻率在18兆以上，因此超純水是很好的選擇。 超純水是一般水處理工藝難以達(dá)到的程度，水的電阻率大于18MΩ*cm，接近18.3MΩ*cm的稱(chēng)為超純水。 超純水設(shè)備通過(guò)預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理和后級(jí)處理等方法，幾乎除去水中的導(dǎo)電性介質(zhì)，同時(shí)將在水中不解離的膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物除去到低水平的水處理設(shè)備。

　　廠(chǎng)家

　　硅片清洗超純水設(shè)備定制廠(chǎng)家-廣東環(huán)保，專(zhuān)業(yè)為硅片、單晶硅、多晶硅、觸摸屏等電子行業(yè)提供專(zhuān)用純水設(shè)備，產(chǎn)品具有出水穩(wěn)定，節(jié)能環(huán)保，節(jié)約人工，自動(dòng)化程度高的特點(diǎn)。，支持全國(guó)上門(mén)安裝調(diào)試，送終身維護(hù)，讓您使用設(shè)備沒(méi)有后顧之憂(yōu)。

　　價(jià)格

　　我們根據(jù)您的用水需求，定制不同出水量的超純水設(shè)備用于清潔硅片或者其他產(chǎn)品清洗，可定制從0.25t到500t不等的超純水系統(tǒng)，價(jià)格在10000起步，到十幾萬(wàn)不等，設(shè)備越大價(jià)格會(huì)相對(duì)較高。如您需要了解詳細(xì)的純水制取裝置價(jià)格，聯(lián)系我們，我們將會(huì)安排專(zhuān)業(yè)的工程師給你選擇設(shè)備。

　　硅片清洗超純水設(shè)備的優(yōu)勢(shì)

　　廣川環(huán)保的硅片清洗超純水設(shè)備具有生產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、操作簡(jiǎn)單、無(wú)廢棄物排放等特點(diǎn)，滿(mǎn)足了各企業(yè)硅片的用水需要。

　　1.硅片清洗用超純水設(shè)備的零部件均采用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品。

　　2.質(zhì)量可靠，整體化程度高，容易擴(kuò)展，增加膜數(shù)可以增加處理量。

　　3 .自動(dòng)化程度高，發(fā)生故障時(shí)立即自行停止，具有自動(dòng)保護(hù)功能。功耗低，水利用率高，運(yùn)行成本低。 結(jié)構(gòu)合理，占地面積少。

　　4.膜模塊由復(fù)合膜卷成，顯示出更高的溶質(zhì)分離率和滲透速度。

　　5.的膜保護(hù)系統(tǒng)，在設(shè)備關(guān)閉時(shí)，淡化水自動(dòng)沖洗膜面污染物，延長(zhǎng)膜壽命。

　　6.硅片清洗用超純水設(shè)備系統(tǒng)無(wú)易損件，無(wú)需大量維護(hù)，運(yùn)行長(zhǎng)期有效。

　　硅片清洗超純水設(shè)備的工藝

　　進(jìn)入EDI系統(tǒng)，主要部分流入樹(shù)脂/膜內(nèi)部，另一部分沿模板外側(cè)流動(dòng)，沖洗膜外的離子。 樹(shù)脂捕集水中的溶解離子。 捕獲的離子通過(guò)電極，陰離子向正極方向移動(dòng)，陽(yáng)離子向負(fù)極方向移動(dòng)。 陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)離子膜，排出到樹(shù)脂/膜外。 陰離子透過(guò)陰離子膜，釋放到樹(shù)脂/膜外。 濃縮的離子從廢水通道排出， 離子水未從樹(shù)脂/膜內(nèi)流出。

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