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立式真空裂解爐

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更新時間:2024-05-01 07:13:30瀏覽次數:114

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產品簡介

一、設備用途:立式真空裂解爐主要用于碳化硅陶瓷、陶瓷復合材料等新材料的制備

詳細介紹

設備用途:

立式真空裂解爐主要用于碳化硅陶瓷、陶瓷復合材料等新材料的制備。

設備特點:

立式結構,底部出、裝料,爐門采用絲杠升降。

雙層爐殼結構,內層不銹鋼,外層為碳鋼,中間通水冷卻。石墨碳棒加熱體,石墨碳氈保溫層保溫效果好。

控制方式為PLC加觸摸屏方式,有手動及自動控制切換。自動化程度高,操作方便。

主要電器元件采用施耐德及歐姆龍品牌,性能穩(wěn)定、可靠。

配備出、裝料料車,方便操作及出裝料,提高工作效率。

、主要技術參數:

No.型號

 工作區(qū)尺寸 

?XH)mm

   高溫度   

()

 真空度  

(Pa)

     壓升率       (Pa/h)

 溫度均勻性   ()

  功率   

 (KW)

1ZT-160-15600X90015001-1000.67±10160
2ZT-245-15800X120015001-1000.67±10245
3ZT-300-15900X150015001-1000.67±15300
4ZT-680-151500X250015001-1000.67±20680
5ZT-900-151800X300015001-1000.67±20900



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